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osakavacuum 半导体材料研究涡轮分子泵

  • 产品型号:ST220F/ST350F/ST450F
  • 更新时间:2026-10-19

简要描述:osakavacuum 半导体材料研究涡轮分子泵 ST220F/ST350F/ST450F 涡轮分子泵系统集成TG-F系列涡轮分子泵与干式真空泵,实现高真空快速抽气,支持运行中移动,操作简便。广泛应用于半导体制造、薄膜沉积、表面分析、材料研究、真空镀膜及电子显微镜等需要高真空环境的工业与科研领域。

产品详情
品牌其他品牌产地类别进口
应用领域环保,化工,能源,电子/电池,半导体

ST SERIES 是由大阪真空(Osaka Vacuum, Ltd.)推出的紧凑型涡轮分子泵系统,专为高真空抽气应用设计。该系统高度集成了 TG-F 系列涡轮分子泵与干式真空泵(DSP251),将高真空抽气所需的所有关键组件整合于一体。用户仅需简单操作,即可快速、稳定地实现高真空环境,是实验室及工业现场理想的真空解决方案。

osakavacuum 半导体材料研究涡轮分子泵

核心特点

• 一体化紧凑设计:集成高真空抽气所需全部关键组件,结构紧凑,节省安装空间。

• 操作简便高效:系统逻辑优化,通过简单操作即可实现高真空抽气,降低使用门槛。

• 移动便捷灵活:配备高品质脚轮,可轻松移动至任意工作位置,适应多工位需求。

• 高抗冲击性能:采用 TG-F 系列涡轮分子泵,具备卓的越的外部冲击耐受性,甚至可在运行过程中安全移动。

• 丰富可选配件:支持根据具体应用需求选配各类附件,灵活扩展系统功能。

技术规格

项目

ST220F*D

ST350F*D

ST450F*D

涡轮分子泵型号

TG220F

TG350F

TG450F

抽速 N₂ (L/s)

220

350

450

抽速 N₂ (带防护网) (L/s)

210

330

430

极限压力 (Pa)

<1×10⁻⁶

<1×10⁻⁶

<1×10⁻⁶

极限压力 (Torr)

<7.5×10⁻⁹

<7.5×10⁻⁹

<7.5×10⁻⁹

入口规格

VG100 / ISO-R100 / CF100

VG100 / ISO-R100 / CF100

VG150 / ISO-B160 / CF160

前级泵

干式真空泵: DSP251230(200) L/min

干式真空泵: DSP251230(200) L/min

干式真空泵: DSP251230(200) L/min

冷却方式

强制风冷

强制风冷

强制风冷

电源

单相 AC100V/200V, 15A

单相 AC100V/200V, 15A

单相 AC100V/200V, 15A

标准配置

ST SERIES 出厂即包含以下标准组件,确保开箱即用:

• 涡轮分子泵:TG220F ~ TG450F

• 前级泵:干式真空泵(DSP251)

• 控制器:ST 控制器

• 真空配件:软管、弯头、卡箍等

• 阀门:自动慢漏阀

• 机架:铝合金框架(带脚轮)

注意:系统配备油雾分离器;入口过滤器不包含在标准配置中,需另行选配。

尺寸规格

型号

入口类型

B尺寸 (mm)

ST220FVD

VG100

680

ST220FRD

ISO-R100

680

ST220FCD

CF100

700

ST350FVD

VG100

710

ST350FRD

ISO-R100

694

ST350FCD

CF100

710

ST450FVD

VG150

670

ST450FBD

ISO-B160

670

ST450FCD

CF160

670

定制服务说明

除标准配置外,大阪真空提供灵活的定制服务,可根据用户的具体工艺需求、空间限制或特殊接口要求,定制专属的泵系统方案,确保真空系统与应用场景完的美的匹配。

制造商信息

• 制造商:大阪真空株式会社(Osaka Vacuum, Ltd.)




osakavacuum 半导体材料研究涡轮分子泵 ST220F/ST350F/ST450F 涡轮分子泵系统集成TG-F系列涡轮分子泵与干式真空泵,实现高真空快速抽气,支持运行中移动,操作简便。广泛应用于半导体制造、薄膜沉积、表面分析、材料研究、真空镀膜及电子显微镜等需要高真空环境的工业与科研领域。

osakavacuum 半导体材料研究涡轮分子泵 ST220F/ST350F/ST450F 涡轮分子泵系统集成TG-F系列涡轮分子泵与干式真空泵,实现高真空快速抽气,支持运行中移动,操作简便。广泛应用于半导体制造、薄膜沉积、表面分析、材料研究、真空镀膜及电子显微镜等需要高真空环境的工业与科研领域。







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