半导体负载锁 PVD 镀膜前级干式真空泵

FR060D 是日本大阪真空（OSAKA VACUUM）FR 系列风冷多级罗茨干式真空泵，属于无油干泵，无需冷却水，非常适合负载锁、循环抽真空工艺，是半导体、镀膜、实验室设备常用前级真空泵。

核心优势

1. 大气压可连续启动运行大气压开放工况抽速 800L/min，可直接从大气开始抽真空，适配频繁破真空、循环抽气的负载锁腔场景。

2. 耐水蒸气能力强标配气镇结构，最大水蒸气处理量 500g/h，含水汽工艺不易返油、不易损坏泵体。

3. 宽压力区间稳定抽速，抽气更快从大气压一直到极限真空附近，都能维持很高抽速，大幅缩短腔体抽气时间；最大抽速 1000L/min。

4. 风冷免水冷，部署简单强制风冷设计，不用外接冷却水，安装灵活，带脚轮可移动，适合实验室、小型设备集成。

5. 无油真空、洁净真空侧无油污染，轴封隔离润滑油脂，不会污染工艺腔体，满足镀膜、分析设备洁净需求。

关键参数

• 最大抽速：1000 L/min

• 极限真空：常规 1.0 Pa；气镇开启 2.0 Pa

• 接口：KF40（进气口 + 排气口）

• 电源：三相 200~240V，50/60Hz，容量 3.0kVA

• 功耗：极限压力 1.1kW，最大 1.3kW

• 净重：75kg

• 工作环境温度：5～40℃

典型应用场景

• 半导体：Load Lock 负载锁腔、传输腔抽真空

• 真空镀膜：溅射、蒸镀等 PVD 设备前级泵

• 科研设备：小型实验炉、电子源 / 离子源、加速器、分析测试仪器

• 高真空配套：涡轮分子泵 TMP 的前级辅助泵

• 工艺：真空干燥、吸附输送、器件封接封装

选型亮点对比

和水冷干泵相比：省去水路、水管、冷水机，成本更低，维护简单；和小流量涡旋干泵相比：抽速大、耐水汽，适合腔体容积大、频繁放气的循环工艺。

同系列还有 DSP 紧凑型干泵、ER100D 节能大抽速干泵可供选择。

OSAKA VACUUM FR060D 半导体负载锁 PVD 镀膜前级干式真空泵 耐水汽、无需冷却水，适合负载锁腔、PVD 镀膜、真空干燥、仪器分析、实验炉抽气，也可作为分子泵前级泵。广泛应用于半导体、光学镀膜、科研实验室、电子封装、新材料研发等行业，适配频繁破真空循环抽气工艺。

OSAKA VACUUM FR060D 半导体负载锁 PVD 镀膜前级干式真空泵 耐水汽、无需冷却水，适合负载锁腔、PVD 镀膜、真空干燥、仪器分析、实验炉抽气，也可作为分子泵前级泵。广泛应用于半导体、光学镀膜、科研实验室、电子封装、新材料研发等行业，适配频繁破真空循环抽气工艺。