ULVAC半导体航天模拟科研洁净真空低温泵

ULVAC 爱发科（ULVAC CRYOGENICS）CRYO-U 是闭循环 GM 制冷式低温泵，属于洁净型高 / 超高真空主泵，依靠低温冷凝 + 吸附原理捕集气体，不需要液氮、液氦，是半导体、镀膜、科研领域主流洁净真空方案。

核心优势

1. 超高洁净真空，无油污染无油结构，不会产生油蒸气返流，极限真空可达 10⁻⁷ Pa，适合对真空洁净度要求严苛的工艺。

2. 全气体抽除能力强对水蒸气、氮气、氩气、氢气均可有效抽除；水蒸气抽速优势突出，非常适合蒸镀、溅射工艺。

3. 安装灵活，结构紧凑安静多数型号支持任意角度安装，体积小、重量轻，运行噪音低；整机由低温泵头 + 配套氦压缩机成套使用。

4. 运行成本低采用闭环氦制冷机，不用持续补充液氮 / 液氦，长期使用成本远高于开放式液氦冷泵。

5. 丰富型号，适配不同工况

• 基础 H 型：通用标准款；

• SP 款：氩气抽除容量大幅提升，适配长时间溅射工艺，再生间隔更长；

• -U 款：兼容老式 CTI 冷泵法兰，直接替换改造旧设备；

• 从小型实验室款 CRYO-U4H，到大量产大型款 CRYO-U30H，抽速覆盖范围极广，支持多泵并联扩容。

6. 稳定耐用，热负载耐受好两级冷屏结构（80K 一级屏 + 15K 二级冷板），抗工艺热负荷能力强，适合连续量产设备。

典型应用领域

• 半导体制造：刻蚀、沉积、离子注入腔体

• 真空镀膜：磁控溅射、真空蒸发、光学镀膜、FPD 面板设备

• 科研装置：表面分析设备、核聚变装置、加速器、空间环境模拟舱

• 其他：需要无油超高洁净真空的各类设备

型号梯队（从小到大）

1. 小型：CRYO-U4H / U6H — 实验室、小型腔体

2. 中小型：CRYO-U8H / U8H-U / U8HSP — 最的通用量产爆款，8 英寸法兰，溅射常用

3. 中型：CRYO-U10H / U12H / U12HSP

4. 中大型：CRYO-U16 / U16P

5. 大型：CRYO-U20P / U22H / U30H — 大型镀膜线、太空模拟舱、大腔体设备

同系列还有 CRYO-TORR 系列紧凑型低温泵，面向小腔体配套

简要工作原理

氦压缩机为 GM 制冷机提供循环氦气，冷头降温：

• 80K 一级冷屏：冷凝水蒸气、阻挡热辐射；

• 15K 二级冷板 + 吸附剂：冷凝氮气、氩气，吸附氢气；饱和后通过升温再生，释放捕集气体，恢复抽气能力。

ULVAC半导体航天模拟科研洁净真空低温泵 CRYO-U16P / CRYO-U4H 为无油洁净超高真空主泵，依靠低温冷凝吸附抽除水汽、氩气、氢气等各类气体，无需液氮液氦。广泛适配半导体制造、溅射镀膜、真空蒸镀、离子注入、表面分析、航天模拟、核聚变、科研加速器等场景，满足高洁净超高真空工艺需求。

ULVAC半导体航天模拟科研洁净真空低温泵 CRYO-U16P / CRYO-U4H 为无油洁净超高真空主泵，依靠低温冷凝吸附抽除水汽、氩气、氢气等各类气体，无需液氮液氦。广泛适配半导体制造、溅射镀膜、真空蒸镀、离子注入、表面分析、航天模拟、核聚变、科研加速器等场景，满足高洁净超高真空工艺需求。