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产品型号：6162 型
更新时间：2023-05-18简要描述：kanomax 风速计6162 型温最高可达500℃(*)，中温最高可达200℃，风速最高可达50m/s。只需更换探头和探头板即可改变中温和高温。*MODEL0204和0205的风速温度补偿范围为0~400℃。
| 品牌 | 其他品牌 | 价格区间 | 2万-5万 |
|---|---|---|---|
| 产地类别 | 国产 | 应用领域 | 环保,化工,能源,电子,综合 |
kanomax 风速计6162 型
kanomax 风速计6162 型
高温最高可达500℃(*)，中温最高可达200℃，风速最高可达50m/s。只需更换探头和探头板即可改变中温和高温。
*MODEL0204和0205的风速温度补偿范围为0~400℃。
这是用溶液刮掉氧化膜和薄膜的工作。任何剩余的光刻胶都不会被刮掉。有两种类型的蚀刻：使用溶液的湿法蚀刻和使用气体的干法蚀刻。
10) 抗蚀剂剥离/清洁
剩余的光刻胶通过与化学品和气体的化学反应被剥离。如果您在最后进行清洁，您将拥有预期的电路。
11)
通过添加通过离子注入热处理激活的杂质离子，可以改变半导体的特性。
12) Silicon wafer smoothing
Silicon wafer本身可能因为涂了一层薄膜而有凹凸不平，所以要重新打磨。通过重复从 7) 光刻胶应用到 12) 硅晶片平滑的过程，创建所需的电路。
种薄膜方法，但目前正在实际使用的有以下两种。为了去除水分和氧气，该过程在真空状态下进行或用惰性气体如氮气（N2）或氩气（Ar）代替。如果能在真空状态下加工，本来就什么都没有，那么水分、氧气等杂质不存在的可能性很大，所以优先选择。
下面的每个过程都是一个典型的真空过程。
CVD(Chemical Vapor Deposition)法：利用待形成薄膜的材料的气体，通
13)
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