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产品型号：Wafergard II F Mini XL
更新时间：2026-11-02简要描述：Entegris半导体超纯气体管控颗粒污染过滤器 Wafergard II F Mini XL 采用疏水 PTFE 滤膜，用于超纯气体颗粒精密过滤，适配惰性、反应性半导体工艺气体，可安装在气柜、阀组箱、气路面板，广泛用于半导体晶圆制造，保障供气洁净，提升晶圆良率。
| 品牌 | 其他品牌 | 供货周期 | 一个月 |
|---|
Entegris 英特格，是面向半导体超纯气路的PTFE 膜式在线气体过滤器，用于超纯气体系统高精度颗粒过滤Entegris。
产品简介
Wafergard® II F Mini XL 在线气体过滤器是半导体超纯气体过滤的优选型号，适配惰性气体与反应性工艺气体，在晶圆制程的气体柜、气路面板中使用，保障供气洁净度，提升晶圆良率。
臭氧气体工艺
气体柜 Gas cabinets
超纯气系统 Ultrapure gas systems
阀组箱 Valve manifold boxes
气路面板 Gas panels
紧凑结构：体积小巧，节省气柜、气路面板安装空间
低压降：压降小，降低低蒸气压气体冷凝风险
洁净室生产：洁净车间制造，出厂 100% 全检，可靠性高
疏水 PTFE 滤膜：过滤效率高，适配各类半导体工艺气体，化学兼容性优秀
| 项目 | 参数 |
|---|---|
| 滤元 | 疏水 PTFE 膜，PFA 支撑骨架 |
| 壳体 | 电抛光 316L 不锈钢 |
| 过滤精度 | 0.0015 μm |
| 下游洁净度 | ＞0.01μm 颗粒：＜0.03 颗 / L；水分挥发物＜10 ppb |
| 内壁粗糙度 | ＜10 μin Ra |
| 氦检漏 | 合格：2×10⁻¹⁰ atm/cc・s；测试：1×10⁻⁹ atm/cc・s |
| 最高进气压力 | 20.7 MPa（207 bar，3000 psig）@23℃ |
| 最大正向压差 | 0.4 MPa（4 bar，60 psi）@23℃ |
| 最大操作压差 | 0.07 MPa（0.7 bar，10 psi）@23℃ |
| 最高工作温度 | 120℃ |
| 颗粒截留效率 | 99.9999999%（9 LRV）@100 slpm（最易穿透粒径） |
一共有 6 种接头形式，兼容行业主流连接：
WG2F-02-RR2：1/4" VCR 垫片密封，总长 127.0 mm
WG2F-02-RR4：1/2" VCR 垫片密封，总长 133.4 mm
WG2F-02-JJ2：1/4" 对焊管，总长 133.4 mm
WG2F-02-JJ4：1/2" 对焊管，总长 133.4 mm
WG2F-02-PS1：1/4" 卡套密封（Swagelok 兼容），总长 115.5 mm
WG2F-32-PS1：3/8" 卡套密封（Swagelok 兼容），总长 119.3 mm
接头类型覆盖 VCR、对焊、卡套，适配半导体气路最的常的用的连接方案。
半导体晶圆制造、LED、面板等高洁净工艺的特种气体输送管路。
Entegris半导体超纯气体管控颗粒污染过滤器 Wafergard II F Mini XL 采用疏水 PTFE 滤膜，用于超纯气体颗粒精密过滤，适配惰性、反应性半导体工艺气体，可安装在气柜、阀组箱、气路面板，广泛用于半导体晶圆制造，保障供气洁净，提升晶圆良率。
Entegris半导体超纯气体管控颗粒污染过滤器 Wafergard II F Mini XL 采用疏水 PTFE 滤膜，用于超纯气体颗粒精密过滤，适配惰性、反应性半导体工艺气体，可安装在气柜、阀组箱、气路面板，广泛用于半导体晶圆制造，保障供气洁净，提升晶圆良率。
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