Entegris 半导体 CVD 高温高纯气体过滤器

半导体专用高温高纯气体终端过滤器，专门针对最高 200℃高温工况设计，解决 TEOS、高 k 介质、热氮气吹扫等高温工艺的微粒污染问题，是 CVD 设备端使用的核心过滤件Entegris。

核心材质

• 滤膜：PTFE（聚四氟乙烯），耐化学腐蚀、耐高温

• 支撑骨架：PFA

• 壳体：电解抛光 316L 不锈钢，内壁 Ra≤0.17μm，低析出、高洁净

核心性能

1. 过滤精度：截留≥0.0015μm 颗粒，截留效率≥99.9999999%（25℃），下游洁净度≤0.03 颗 / 升（＞0.01μm 颗粒），氦检漏率＜1×10⁻¹⁰ Pa・m³/s，密封性非常强

2. 耐温能力：惰性气体下最高 200℃，适配 120~200℃高温前驱体管路

3. 压力参数：最高工作压力 0.99MPa；高温 200℃时最大正向压差 0.08MPa，低压差设计，保障物料输送稳定

4. 接口标准：1/2" VCR 兼容垫片密封外螺纹，半导体高纯气路通用接口

适用场景

• CVD 沉积设备终端点过滤器

• TEOS、高 k（High-k）栅介质薄膜沉积工艺

• 湿法清洗 / 干燥的热氮气吹扫

• BEOL 后段金属互连、FEOL 前段晶体管制程

产品优势

1. 耐高温版本：区别常规 MAX 系列，专门针对高温前驱体管路，解决普通过滤器高温下析出、失效问题

2. 低压差：流量稳定，不影响前驱体供气配比，工艺一致性更好

3. 可直接替换：两个长度规格，WGMXMPRR4HT（127mm）、WGMXMPRR4HTL（148mm），同尺寸过滤器直接换装，不用改管路

4. 预烘烤工艺：出厂特殊烘烤处理，投产排气快，缩短机台调试时间

5. 紧凑体积：节省气柜、设备内部安装空间

型号清单

• WGMXMPRR4HT：总长 127mm（5.00 英寸）

• WGMXMPRR4HTL：总长 148mm（5.82 英寸）

Entegris 半导体 CVD 高温高纯气体过滤器 Entegris 英特格 Wafergard® MAX HT 在线气体过滤器，适配最高 200℃高温工况，可截留纳米级颗粒，用于半导体 CVD 设备、TEOS、高 k 材料沉积、热氮气吹扫等工艺，服务 FEOL、BEOL 制程，保障高纯气体洁净度，降低晶圆颗粒污染缺陷，是半导体制造高温气路的核心过滤耗材。

Entegris 半导体 CVD 高温高纯气体过滤器 Entegris 英特格 Wafergard® MAX HT 在线气体过滤器，适配最高 200℃高温工况，可截留纳米级颗粒，用于半导体 CVD 设备、TEOS、高 k 材料沉积、热氮气吹扫等工艺，服务 FEOL、BEOL 制程，保障高纯气体洁净度，降低晶圆颗粒污染缺陷，是半导体制造高温气路的核心过滤耗材。