SAMCO半导体精密表面预处理臭氧清洗设备

SAMCO（莎姆克）UV-1 是一款台式紧凑型紫外臭氧清洗设备，属于干法表面处理设备，依靠紫外光 + 臭氧 + 载台加热协同作用，在常压环境下温和高效去除基片表面有机污染物，广泛用于半导体、光学、优良材料实验室与精密研发场景。

核心原理

低压汞灯产生紫外光，一方面激发氧气生成臭氧；另一方面紫外光直接打断有机物化学键，配合加热载台加速氧化反应，把有机污染物分解成气态小分子挥发去除，全程干法、无液体浸泡，不伤精密器件。

产品亮点

1. 适配样品广：最大支持 φ100mm（4 英寸）基片，兼容硅片、玻璃、陶瓷、GaN、GaAs、InP、SiC 等化合物半导体；

2. 带加热载台：可调控温度，提升清洗、光刻胶灰化速率，工艺窗口宽；

3. 常压运行：不需要真空机组，部署简单、占地小，节省实验室空间；

4. 工艺柔和安全：纯干法工艺，不会造成芯片电性损伤；配置舱盖互锁、氮气自动吹扫、加热熔断保护、臭氧尾气催化分解、急停按钮多重安全机制，尾气臭氧可降到安全标准；

5. 操作简单：面板按键控制，上手门槛低。

典型应用

• 半导体塑封外壳、引线框架表面清洁

• 第三代半导体（GaN/SiC 等）基片精密表面处理

• 表面改性：提升材料润湿性、粘接附着力

• 光刻胶灰化、剥离、除残胶

• 精密光学件、薄膜样品有机污渍清洗

• 可控薄氧化层制备、UV 固化

适合场景

高校实验室、科研院所、半导体研发、光电子、新材料研发小批量样品前处理，主打精密表面预处理，是微纳加工、化合物半导体工艺里常用的表面清洗设备。

SAMCO半导体精密表面预处理臭氧清洗设备 UV Ozone Cleaner UV-1 为台式常压干法清洗设备，搭配加热载台，可去除基片有机污染物、光刻胶灰化、表面改性，提升基材润湿性与附着力。适配硅、GaN、SiC 等 4 英寸以内样品，广泛用于半导体、光学、优良材料、化合物半导体科研与精密研发领域。

SAMCO半导体精密表面预处理臭氧清洗设备 UV Ozone Cleaner UV-1 为台式常压干法清洗设备，搭配加热载台，可去除基片有机污染物、光刻胶灰化、表面改性，提升基材润湿性与附着力。适配硅、GaN、SiC 等 4 英寸以内样品，广泛用于半导体、光学、优良材料、化合物半导体科研与精密研发领域。