

产品型号:Wafergard II F WG2FT1BW2
更新时间:2026-11-04简要描述:Wafergard II F WG2FT1BW2 Entegris 半导体超高纯PTFE微型气体过滤器 采用 PTFE 膜,可拦截≥0.0015μm 颗粒,低压降设计,适配高纯惰性、反应性工艺气体。多用于半导体超高纯气路、气柜面板、臭氧供气、生命科学管路,洁净室生产,适合狭小空间机台内点位过滤,保障气体洁净度。
| 品牌 | 其他品牌 | 供货周期 | 一个月 |
|---|
Wafergard® II F 是英特格(Entegris)面向超高纯气体管路开发的微型 PTFE 膜式在线气体过滤器,主打纳米级颗粒拦截,适配半导体工艺气体、臭氧、生命科学等高洁净工况,是气柜、机台内部狭小空间点位过滤的主流选型Entegris。

滤芯:疏水 PTFE 过滤膜 + PFA 支撑骨架,耐强腐蚀,适配惰性气体、各类反应性半导体工艺气体,可用于臭氧气体回路
壳体:VAR 316L 不锈钢,内壁电抛光,内壁光洁度≤7 μin Ra,析出极低
过滤精度:≥0.0015 μm(1.5nm),30 slpm 流量下颗粒去除效率>99.9999999%(9 LRV)
洁净指标:下游>0.01μm 颗粒<0.03 颗 / 升;水分析出<10 ppb
氦检标准:合格级 2×10⁻¹⁰ cc/sec,测试级 1×10⁻⁹ cc/sec,密封性优异
最大入口压力:207 barg(3000 psig,23℃)
正向压差上限:4 bar;反向压差上限仅 0.07 MPa(0.7bar),管路设计必须规避反压
最高工作温度:120℃
结构优势:低压降设计,减少低蒸气压工艺气体冷凝风险;外径仅 19.05mm,体积紧凑,适合气面板、气柜、设备内部狭窄位置安装
生产标准:洁净室内完成焊接、清洗、检测,出厂自带高洁净度
半导体超高纯气体管路、气柜、气路面板、机台工艺端
气态臭氧输送系统
生命科学高纯供气系统
| 型号 | 接口形式 | 适用行业 |
|---|---|---|
| WG2FT1BW2 | 1/4" 对焊 | 半导体 |
| WG2FT1RF2 | 1/4" VCR 垫片密封,公进母出 | 半导体 |
| WG2FT1RR2 | 1/4" VCR 垫片密封,公进公出 | 半导体 |
| WG2FT1RR2L | 1/4" VCR 垫片密封,公进公出 | 生命科学 |
| WG2FT1SS2 | 1/4" Swagelok 卡套 | 半导体 |
Wafergard II F Micro:本款,PTFE 膜、微型小巧款,适合机台 / 气柜点位过滤
Wafergard II F-1500:大流量版本,用于主管路,外形尺寸、耐压不同
Wafergard II SF:全金属烧结滤芯款,无 PTFE 膜,不能用于臭氧。
Wafergard II F WG2FT1BW2 Entegris 半导体超高纯PTFE微型气体过滤器 采用 PTFE 膜,可拦截≥0.0015μm 颗粒,低压降设计,适配高纯惰性、反应性工艺气体。多用于半导体超高纯气路、气柜面板、臭氧供气、生命科学管路,洁净室生产,适合狭小空间机台内点位过滤,保障气体洁净度。
Wafergard II F WG2FT1BW2 Entegris 半导体超高纯PTFE微型气体过滤器 采用 PTFE 膜,可拦截≥0.0015μm 颗粒,低压降设计,适配高纯惰性、反应性工艺气体。多用于半导体超高纯气路、气柜面板、臭氧供气、生命科学管路,洁净室生产,适合狭小空间机台内点位过滤,保障气体洁净度。