KAIJO QUAVA mini QR-003兆声波清洗系统

核心优势

• 超精细清洗：可对硅晶圆、HDD 介质及平板显示玻璃进行超精细的精密清洗

• 更高流速：液体流速高于原版 Mega Puck，清洗效率更高

• 更高旋转速度：目标基板的允许旋转速度高于原版，适配更大尺寸晶圆

• 更大间距：目标基板与固定销之间的允许间距更大，减少清洗过程中的遮挡和污染

• 灵活适配：可选频率与振荡模式，适用于不同应用场景

• 经济实用：交钥匙式制造解决方案，经济实惠且易于使用

• 能量直达：兆声波能量直接作用于目标物体，清洗效率的最的大化

主要特点

• 可与去离子水（DI Water）或化学品配合使用

• 支持上位机通信（Remote Terminal、RS-485、DeviceNet），便于自动化集成

• 输出功率表带 4 位数字显示，实时监控

• 更换发生器或换能器时无需现场校准，维护便捷

• 工作频率 950kHz（高频兆声波）

• 输出功率设定点控制，步长 0.1 瓦

• 平均功率波动仅 ±1%，稳定性极的高的

• 支持可编程软启动与软停止，保护设备和晶圆

• 电源电压范围宽：100 VAC 至 240 VAC，全球通用

发生器规格（型号 30110 / QR-003）

换能器规格

应用领域

• 半导体制造：硅晶圆超精细清洗

• 硬盘制造：HDD 介质清洗

• 平板显示：FPD 玻璃清洗

• 也可扩展应用于其他需要高精度兆声波清洗的工业场景

总结：Quava Mega Puck Flow 是一款面向半导体和精密制造领域的高的端的兆声波清洗设备，以 950kHz 高频兆声波为核心，凭借高流速、高转速、高精度功率控制等特性，为硅晶圆、HDD 介质和 FPD 玻璃提供超精细清洗解决方案，是半导体制造中可靠的清洗设备选择。

KAIJO QUAVA mini QR-003兆声波清洗系统 是一款由 Kaijo生产的 950kHz 高频兆声波清洗系统，型号为 30110（QR-003），专用于硅晶圆、HDD 介质及 FPD 平板显示玻璃的超精细精密清洗。其兆声换能器通过大表面扫描将高功率声能直接作用于目标物体，具备更高流速与旋转速度，适用于半导体制造、硬盘生产及平板显示等高精度清洗行业。

KAIJO QUAVA mini QR-003兆声波清洗系统 是一款由 Kaijo生产的 950kHz 高频兆声波清洗系统，型号为 30110（QR-003），专用于硅晶圆、HDD 介质及 FPD 平板显示玻璃的超精细精密清洗。其兆声换能器通过大表面扫描将高功率声能直接作用于目标物体，具备更高流速与旋转速度，适用于半导体制造、硬盘生产及平板显示等高精度清洗行业。