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产品型号:Kaijo 30110(QR-003)
更新时间:2026-08-28简要描述:Kaijo Quava Mega Puck Flow 半导体/硬盘/平板 950kHz 高频兆声波清洗机 是一款专为半导体、硬盘及平板显示行业打造的 950kHz 高频兆声波清洗系统。它通过高流速、高转速设计,将声能直接作用于目标物体,实现硅晶圆、HDD 介质及 FPD 玻璃的超精细精密清洗。
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超精细清洗:可对硅晶圆、HDD 介质及平板显示玻璃进行超精细的精密清洗
更高流速:液体流速高于原版 Mega Puck,清洗效率更高
更高旋转速度:目标基板的允许旋转速度高于原版,适配更大尺寸晶圆
更大间距:目标基板与固定销之间的允许间距更大,减少清洗过程中的遮挡和污染
灵活适配:可选频率与振荡模式,适用于不同应用场景
经济实用:交钥匙式制造解决方案,经济实惠且易于使用
能量直达:兆声波能量直接作用于目标物体,清洗效率的最的大化
可与去离子水(DI Water)或化学品配合使用
支持上位机通信(Remote Terminal、RS-485、DeviceNet),便于自动化集成
输出功率表带 4 位数字显示,实时监控
更换发生器或换能器时无需现场校准,维护便捷
工作频率 950kHz(高频兆声波)
输出功率设定点控制,步长 0.1 瓦
平均功率波动仅 ±1%,稳定性极的高的
支持可编程软启动与软停止,保护设备和晶圆
电源电压范围宽:100 VAC 至 240 VAC,全球通用
半导体制造:硅晶圆超精细清洗
硬盘制造:HDD 介质清洗
平板显示:FPD 玻璃清洗
也可扩展应用于其他需要高精度兆声波清洗的工业场景
总结:Quava Mega Puck Flow 是一款面向半导体和精密制造领域的高的端的兆声波清洗设备,以 950kHz 高频兆声波为核心,凭借高流速、高转速、高精度功率控制等特性,为硅晶圆、HDD 介质和 FPD 玻璃提供超精细清洗解决方案,是半导体制造中可靠的清洗设备选择。
Kaijo Quava Mega Puck Flow 半导体/硬盘/平板 950kHz 高频兆声波清洗机 是一款专为半导体、硬盘及平板显示行业打造的 950kHz 高频兆声波清洗系统。它通过高流速、高转速设计,将声能直接作用于目标物体,实现硅晶圆、HDD 介质及 FPD 玻璃的超精细精密清洗。
Kaijo Quava Mega Puck Flow 半导体/硬盘/平板 950kHz 高频兆声波清洗机 是一款专为半导体、硬盘及平板显示行业打造的 950kHz 高频兆声波清洗系统。它通过高流速、高转速设计,将声能直接作用于目标物体,实现硅晶圆、HDD 介质及 FPD 玻璃的超精细精密清洗。