等离子高频电源 半导体刻蚀工艺用

这是日本 AD‑TEC 的等离子处理专用 RF 高频电源，广泛用于半导体、真空镀膜、等离子清洗、刻蚀等工艺，分为 TXR、TXL、TXM 三个子系列，覆盖不同频率与功率等级。

产品特点

1. 搭载新一代 CPU，响应速度大幅提升

2. 支持 EtherCAT 工业以太网通信，适配自动化产线控制

可选配置

• 脉冲输出功能

• VF：频率可变功能

• 电弧切断保护（防打火）

各系列参数

TXR 系列｜13.56MHz / 27.12MHz（主流射频频率）

半导体最的常用的 13.56MHz，也支持 27.12MHz

• 额定输出功率：300W / 600W / 1000W / 3000W / 10000W

• 供电：小功率单相 AC200‑240V；3000W 及以上三相 AC200‑240V

• 重量：13~81kg

• 外形尺寸 (宽 × 深 × 高 mm)：300‑1000W：215 × 498 ×133；3000W：215 ×598 ×221；10000W：430 ×700 ×265

• 冷却：300‑1000W 强制风冷；3000W、10000W风冷 + 水冷

TXL 系列｜400kHz 低频射频电源

400kHz 适合偏压、溅射、等离子刻蚀工艺

• 额定输出功率：500W、1000W

• 供电：三相 AC200‑240V

• 重量：16kg

• 外形 (宽 × 深 × 高 mm)：215 × 628 × 145

• 冷却：强制风冷

TXM 系列｜2MHz 中频射频电源

• 额定输出功率：2500W、5000W

• 供电：三相 AC200‑240V

• 重量：21kg、56kg

• 外形 (宽 × 深 × 高 mm)：2500W：215 × 550 ×177；5000W：430 × 650 ×221

• 冷却：强制风冷 + 水冷

应用场景

半导体工艺、光掩模处理、PVD/CVD 镀膜、等离子清洗、表面改性、RIE 反应离子刻蚀等真空等离子设备。

选型要点

1. 频率选择

• TXR 13.56MHz：通用等离子，最的常用的；27.12MHz 高密度等离子

• TXL 400kHz：偏压电源，离子轰击工艺

• TXM 2MHz：中等频率等离子工艺

2. 小功率风冷，大功率 3000W 起需要水冷

3. 自动化设备优先选带 EtherCAT 通信型号，按需选配脉冲、变频、电弧保护。

AD‑TEC TXR/TXL/TXM 系列 等离子高频电源 半导体刻蚀工艺用 覆盖 400kHz‑27.12MHz 多频段，可实现等离子激发，支持脉冲、电弧保护、EtherCAT 通讯。主要用于等离子清洗、刻蚀、镀膜、表面改性工艺，适配半导体、光掩模、真空镀膜等行业，满足设备自动化产线使用需求。

AD‑TEC TXR/TXL/TXM 系列 等离子高频电源 半导体刻蚀工艺用 覆盖 400kHz‑27.12MHz 多频段，可实现等离子激发，支持脉冲、电弧保护、EtherCAT 通讯。主要用于等离子清洗、刻蚀、镀膜、表面改性工艺，适配半导体、光掩模、真空镀膜等行业，满足设备自动化产线使用需求。