直流溅射电源 爱发科等离子真空镀膜电源

Model:DC 是日本 ULVAC（アルバック / 爱发科）推出的溅射工艺专用直流电源，属于脉冲 & 直流电源系统产品线，专为等离子溅射镀膜场景开发。电源采用高可靠元器件与成熟电路设计，融入爱发科多年等离子负载应用经验，适配各类金属靶材直流溅射，广泛用于半导体、光学镀膜、面板、材料表面处理领域。

产品型号谱系

完整系列覆盖从小功率到大功率多款机型：

1. DCS0052B：500W 入门小型直流电源

2. DC-2 / DC-4：2kW、4kW 中小功率机型

3. DC-10 / DC-20（含 H 高电压版本）：10kW、20kW 主流中功率机型

4. DC-30-44H：30kW 大功率高阻抗规格机型

后缀 -H 代表高电压规格（额定输出 1000V/1200V），适配高阻抗靶材工艺；标准机型额定输出 800V。

核心特点

1. 轻量化、节省安装空间，机架式紧凑结构；

2. 电压规格丰富：标准 800V，可选 1000V/1200V 高电压机型（10kW/20kW/30kW 型号）；

3. 等离子负载专用控制算法，针对溅射等离子特性优化输出稳定性；

4. 强制风冷设计，无需外接冷却水，简化设备管路配套；

5. 搭载高性能高速 ARC 电弧抑制回路：快速熄弧，减少靶材打火、薄膜缺陷，提升良率；

6. 并联扩容能力（10kW/20kW 机型）：最多 12 台并联一起，总输出功率最高可达 240kW；

7. 高控制精度：功率区间 10%~100% 均可稳定输出，设定值误差控制在 ±1% 级别；

8. 通讯接口齐全：支持模拟量 / 数字量外部控制、RS232/RS485，高的端的型号可选 EtherCAT 工业总线；

9. 合规认证：满足 CE、SEMI F47、RoHS 标准（DCS0052B、400V 输入规格除外）。

关键规格概览

1）小功率机型

2）中大功率机型

典型应用场景

• 直流磁控溅射镀膜（金属靶：Al、Cu、Cr、Ti、Au、Ag 等）

• 半导体、光学玻璃、装饰镀膜、ITO 金属膜层制备

• 等离子清洗、离子刻蚀等直流等离子工艺

• 连续式镀膜线、集群式真空镀膜设备

直流溅射电源 爱发科等离子真空镀膜电源 ULVAC Model:DC 系列直流溅射电源覆盖 500W~30kW 功率区间，搭载电弧抑制功能，强制风冷，适配磁控溅射金属靶工艺。广泛用于实验室研发、光学镀膜、装饰涂层、半导体薄膜制备、等离子表面处理，可满足科研样机与量产真空镀膜设备使用。

直流溅射电源 爱发科等离子真空镀膜电源 ULVAC Model:DC 系列直流溅射电源覆盖 500W~30kW 功率区间，搭载电弧抑制功能，强制风冷，适配磁控溅射金属靶工艺。广泛用于实验室研发、光学镀膜、装饰涂层、半导体薄膜制备、等离子表面处理，可满足科研样机与量产真空镀膜设备使用。