Suiho特氟龙脱气膜技术解析：非多孔PTFE结构与微气泡去除机制

更新时间：2026-01-07

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随着半导体器件制造向微细化发展，以及300mm晶圆和大型LCD基板的普及，生产技术对精度的要求达到了前的所的未的有的高度。在这一进程中，药液中肉眼难以察觉的**微气泡（Microbubbles）**已成为制约良率的关键隐患。

微气泡会导致显影液分布不均、光刻胶残留（Resist remaining）以及蚀刻工艺偏差等各类器件缺陷。因此，开发一种能够高效、彻的底去除药液中溶解气体的脱气技术，已成为半导体与液晶制造领域的迫切需求。

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水晶科技（Suiho Techno）的脱气膜之所以能在高精尖制造领域获得广泛信赖，核心在于其独特的膜材料选择与物理结构设计。

材质优势：四氟乙烯树脂（PTFE）产品采用聚四氟乙烯（Polytetrafluoroethylene，简称PTFE，即特氟龙）作为核心材料。这种材料具有极的高的化学惰性，赋予了膜组件卓的越的耐药性、耐溶剂性及耐热性。这使得该脱气膜能够直接应用于显影液、光刻胶、蚀刻液、电镀液及超纯水等严苛化学环境中，而不会发生腐蚀或性能衰减。
结构革新：非多孔（Non-porous）设计与传统的多孔膜不同，Suiho脱气膜采用了非多孔中空丝膜结构。这一设计具有双重优势：

Suiho脱气膜的运作并非简单的物理过滤，而是一个基于气体扩散定律的物理化学过程。

真空压差驱动脱气机制的核心在于利用分压差。设备将PTFE中空纤维膜的外侧保持真空状态，而药液则在膜的内侧流动。
气体选择性透过由于膜内侧药液中溶解气体的分压高于真空侧，气体分子会通过四氟乙烯树脂的管壁，从高压侧（药液）向低压侧（真空）扩散。这一过程实现了对溶解在药液中气体的高效去除，且不会对药液本身造成污染或损耗。

针对现代晶圆厂（Fab）对空间利用率的极的高要求，Suiho在设计上实现了突破。

目前，该技术已广泛应用于：

水晶科技的特氟龙脱气膜，通过非多孔PTFE材料与真空分压脱气机制的完的美结合，成功解决了微气泡导致的工艺缺陷难题。它不仅提供了高纯度的药液处理方案，更以其紧凑的设计和卓的越的耐腐蚀性，成为了半导体与液晶制造中不的可的或的缺的关键组件。