破局纳米薄膜制备难题：基于SDI NanoDip®的高精度浸涂解决方案

更新时间：2026-02-05

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在当前的材料科学研究中，纳米薄膜的制备已不再局限于简单的表面覆盖。无论是光子晶体（如欧泊膜）的自组装，还是纳米粒子的定向排列，科研人员面临着对膜厚均匀性、分子排列结构以及多层复合工艺的极的高要求。

传统的浸涂机往往受限于速度下限和单一的垂直运动模式，在处理高粘度溶液或需要特殊角度干预的实验时，往往难以获得理想的涂层效果。如何实现纳米级的精准控制与灵活的运动轨迹，成为了突破实验瓶颈的关键。

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针对上述挑战，SDI公司推出了 NanoDip® Coater ND-0407-N1-CE。这不仅是一台台式浸涂机，更是一个由京都大学平尾研究室指导开发的精密运动控制平台。它通过以下三大核心技术，为科研实验提供了全新的解决方案：

1. 纳米级超低速控制，突破工艺下限薄膜的质量往往取决于提拉速度的稳定性。ND-0407-N1-CE 拥有行业领的先的1 nm/秒最小速度控制能力。

技术原理：通过高精度电机与精密丝杠机构，将速度控制细化至纳米单位。
解决痛点：传统设备在低速段容易出现抖动或失速，导致薄膜厚度不均。该设备的超低速性能确保了在极慢提拉速度下（如制备厚膜或高密度沉积时）的绝的对平稳，从而实现分子级别的均匀沉积。

2. 独的创的2轴θ角控制，实现复杂运动轨迹这是该设备区别于普通浸涂机的核心亮点。ND-0407-N1-CE 采用了 X轴与Z轴的双轴联动机构，引入了θ角（Theta Angle）控制概念。

3. 连续点位运行模式，满足多层与交替涂布需求在制备多层复合薄膜或进行异液交替吸附（Layer-by-Layer Assembly）时，复杂的程序控制至关重要。

技术原理：设备支持最多 16个 速度/停止/时间设定点，并支持连续点位运行模式。
解决痛点：用户可以编程设定“慢速浸入 -> 停留吸附 -> 变速提拉 -> 暂停 -> 再次浸入"的复杂循环。这种灵活性完的美解决了双液交替涂布或需要中途改变速度以控制膜厚梯度的实验需求。

基于上述技术特性，SDI NanoDip® 涂布机已成为多个前沿科研领域的理想工具：

科研的进步往往依赖于工具的革新。SDI NanoDip® Coater ND-0407-N1-CE 通过将运动控制精度提升至纳米级别，并引入灵活的双轴θ角控制，为材料科学家提供了一个强大且可靠的实验平台。它不仅解决了传统浸涂工艺中的速度与均匀性难题，更通过开放的编程逻辑，拓展了薄膜制备的工艺边界。