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更新时间:2026-02-05
浏览次数:25在纳米科技与精密光学薄膜的研发领域,涂布工艺的精度直接决定了材料的最终性能。传统的浸渍涂布(Dip Coating)技术虽然原理简单,但在面对超薄纳米膜(尤其是单层或寡层膜)以及复杂的多层自组装(Layer-by-Layer, LbL)工艺时,往往受限于机械控制精度和操作繁琐性。
株式会社SDI(SDI Co., Ltd.)推出的 Alternate Dip® Coater OD-2304-N1-CE,作为一款专为实验室研发设计的台式设备,凭借其独特的运动控制逻辑和极宽的速度调节范围,重新定义了精密浸渍涂布的下限。本文将深入剖析这款设备的核心技术细节。

OD-2304-N1-CE 最引以为傲的技术指标在于其无与的伦比的速度控制范围。
超低速极限:1 nm/sec这是一个极的具震撼力的数据。在1 nm/sec的速度下,基板每秒钟仅移动1纳米的距离。这种级别的控制能力,使得研究人员能够通过极缓慢的提拉过程,精确操控溶胶-凝胶(Sol-Gel)过程中的流体动力学平衡,从而制备出原子级平整的超薄膜。这对于传统电机控制来说是极大的挑战,SDI通过精密的驱动算法实现了这一突破。
高速范围:60 mm/sec在处理常规涂层或进行快速工艺筛选时,设备也能提供最的高60 mm/sec的速度支持。
技术跨度: 该设备实现了从 1 nm/sec 到 60 mm/sec 的跨越,覆盖了纳米级到微米级的广泛涂布需求,速度跨度之大在同类设备中极为罕见。
与市面上常见的单槽位提拉涂布机不同,OD-2304-N1-CE 采用了独特的 Alternate Dip®(交替浸渍) 架构。
多槽位布局: 设备支持最的大 10个液槽 横向排列。这意味着研究人员可以在同一实验流程中,配置不同的溶液(如:前驱体溶液A、清洗液、前驱体溶液B、干燥槽等)。
任意顺序控制: 这是该设备的灵魂。它不仅仅是一个简单的提拉机,更是一个多轴联动的自动化工作站。机械臂可以根据预设程序,在10个槽位之间按任意顺序移动(例如:槽1浸渍 -> 槽3清洗 -> 槽5烘干 -> 槽2反向浸渍)。
应用场景: 这种设计完的美契合了 LbL (Layer-by-Layer) 自组装技术 的需求。无需人工干预,设备即可自动完成复杂的交替浸渍、清洗和干燥循环,极大地消除了人为操作带来的误差,确保了多层膜制备的重复性与一致性。
为了驾驭上述复杂的工艺,该设备在硬件配置和软件交互上也进行了深度优化。
行程范围: Z轴(垂直)150mm,X轴(水平)150mm。这一行程设计非常适合大多数实验室标准尺寸的基板和烧杯/液槽。
负载能力: 最的大可搬运重量达 500g,足以应对带有夹具的厚重基板或大体积液槽。
精度保障: 依靠高精度的丝杠与电机系统,配合闭环控制,确保在1nm/sec的超低速下依然保持平稳运行,无抖动或爬行现象。
触控界面: 配备直观的 触摸屏(Touch Panel) 操作界面,支持日语/英语切换,符合国际化实验室的操作习惯。
程序记忆: 内置 8个程序 存储空间,每个程序可设置高达 16个速度点、16个位置点和16个停止时间点。这种颗粒度的控制允许用户编写极其复杂的工艺流程(如:慢速入液 -> 长时间静置 -> 快速出液 -> 滞空干燥)。
实时监控: 屏幕实时显示当前速度、当前位置及动作剩余时间,让实验过程完的全透明化,便于实时监控与故障排查。
CE Marking 认证: OD-2304-N1-CE 明确标注了 CE Marking。这意味着该设备符合欧盟的安全、健康和环保要求(如低电压指令LVD和电磁兼容性指令EMC)。对于需要发表高水平SCI论文或进行跨国合作的研究机构来说,使用符合CE标准的设备进行实验,能为数据的严谨性和合规性提供有力背书。
宽电压输入: 适配 AC100V-240V 电压,无需额外变压器即可在全的球各地的实验室直接使用,极大地方便了国际用户。
| 参数项目 | 规格数值 | 备注 |
|---|---|---|
| 型号 | OD-2304-N1-CE | 实验/研发用台式机 |
| 速度范围 | 1 nm/sec ~ 60 mm/sec | 覆盖纳米至微米级 |
| 运动行程 | Z轴:150mm / X轴:150mm | 水平移动对应多槽位 |
| 最的大负载 | 500g | 含基板与夹具 |
| 控制方式 | 触摸屏 (日/英) | 支持复杂程序编辑 |
| 程序设定 | 8程序 / 16步/程序 | 可设速度、位置、时间 |
| 安全认证 | CE Marking | 符合欧盟安全指令 |
| 电源 | AC100V-240V (300VA) | 宽电压设计 |
SDI Alternate Dip® Coater OD-2304-N1-CE 不仅仅是一台机械装置,它是精密运动控制与材料科学工艺的完的美结合体。
它解决了传统浸渍涂布中“速度下限不够低"和“多层工艺操作繁琐"两大痛点。对于从事纳米薄膜、生物传感器、光电材料等前沿领域的科研人员而言,这款设备提供的不仅是 1nm/sec 的物理精度,更是实现复杂多层结构可控合成的无限可能性。在追求极的致微观结构的科研道路上,OD-2304-N1-CE 无疑是实验室中值得信赖的精密伙伴。