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更新时间：2026-04-10 
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两款设备同属山田光学高亮度卤素光源检测系列，定位为人工目视检测的辅助照明设备，非全自动缺陷检测系统。主要应用于半导体晶圆（硅片、砷化镓、碳化硅等）、光掩膜、液晶基板等精密表面的制程后检查，可高效识别表面异物、微划痕、抛光不均、雾状缺陷、滑移线等微观瑕疵。
峰值照度：≥400,000 勒克斯（Lux），远超常规 LED 检测光源。
光源类型：3400K 高色温卤素灯，光谱连续、显色性佳（Ra≈100），可清晰呈现 0.2 微米级细微缺陷。
照明均匀性：经精密光学系统优化，照射区域光场分布均匀，无中心亮斑、边缘衰减问题。
采用冷反射镜设计，样品热辐射影响降至传统铝镜的1/3。
有效抑制红外热量传递，避免晶圆等热敏材料受热变形、损伤，支持长时间连续检测。
高照度模式：用于细微缺陷精检、定位。
低照度模式：用于快速全域初检、外观浏览。
| 参数 | YPI-150ID | YP-250I |
|---|---|---|
| 有效照明直径 | φ30mm | φ60mm |
| 适配晶圆尺寸 | 6 英寸及以下 | 8 英寸及以下 |
| 冷却方式 | 自然冷却 | 强制风扇冷却（螺旋桨 / 管道风机可选） |
| 功耗 | 约 200W | 约 350W |
| 外形尺寸 | 140(W)×94(H)×185(D)mm | 135(W)×72(H)×260(D)mm |
半导体晶圆制程：抛光、清洗、镀膜后表面质量抽检，定位纳米级划痕、残留、颗粒污染。
光掩膜 / 基板检测：掩膜版、玻璃基板表面缺陷目视确认。
精密元件检查：适配对热敏感、高平整度要求的光学元件、磁性材料表面检测。
高亮度：突破常规光源亮度极限，让微米级缺陷肉眼可见。
低损伤：冷镜控温，保护晶圆等精密材料表面。
高效率：双档切换、大 / 小光斑覆盖，适配不同尺寸与检测节奏。
稳定性：工业级设计，适配洁净室 0–40℃环境连续作业。
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