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  • dyna-t IPS-FPP7070-W-IF15平行光面光源圆柱体等工件边缘质检灯
    dyna-t IPS-FPP7070-W-IF15平行光面光源圆柱体等工件边缘质检灯

    IPS-FPP-IF15 系列平行光面光源利用平行光照射原理 平行光面光源圆柱体等工件边缘质检灯,专用于圆柱体等工件的高精度边缘检测,支持透过照明与红外模式,提供红/白/蓝/绿多色可选。广泛应用于半导体制造、精密机械加工、电子元件检测、包装印刷、汽车零部件质检等工业视觉检测领域,适用于需要非接触式尺寸测量与边缘定位的自动化检测场景。

    更新时间:2026-08-14
  • IPS-FP160160dyna-t.coLED表面照明
    IPS-FP160160dyna-t.coLED表面照明

    dyna-t.coLED表面照明 IPS-FP160160 高亮度、远距离条形照明,发光面为 20mm x 16mm。节省空间的最佳照明和远距离照射的辅助照明。所安装镜头的扩散角可以从四种类型中选择:

    更新时间:2024-07-11
  • dyna-t IPS-FP100100-WLED灯面光源 高均匀电子半导体汽车零件检测
    dyna-t IPS-FP100100-WLED灯面光源 高均匀电子半导体汽车零件检测

    IPS-FP系列 LED灯面光源 高均匀电子半导体汽车零件检测 主要用于机器视觉检测中的透过照明(背光),适用于检测物体轮廓、尺寸、透明度及表面缺陷。广泛应用于电子、半导体、精密制造、汽车零件及包装等行业,尤其适合对安装空间有限、光照均匀性要求高的自动化检测场景。

    更新时间:2026-08-11
  • AITEC LCAG100x120-150W-4PCB线路对位标记SMT贴片基板检测用光源灯
    AITEC LCAG100x120-150W-4PCB线路对位标记SMT贴片基板检测用光源灯

    LCAG 系列同轴落射照明主要用于尺寸测量、PCB 线路检测 PCB线路对位标记SMT贴片基板检测用光源灯 、划痕/刻印/凹痕检测、形状检测及图像处理器光源。凭借半镜同轴照射消除反光干扰,适用于电子元器件、印刷、食品、医疗等行业的表面外观检测场景。

    更新时间:2026-08-14
  • KDN KDFL2-135/180*LED面光源高均匀度面照明 半导体零部件检测
    KDN KDFL2-135/180*LED面光源高均匀度面照明 半导体零部件检测

    KDFL2系列是京都電機器推出的导光型面照明LED产品 LED面光源高均匀度面照明 半导体零部件检测,采用导光板设计,实现高均匀度(标准80%以上,定制90%以上)的平板照明,同时具备低功耗优势。主要应用于工业机器视觉领域,如产品外观检测、尺寸测量、缺陷识别等图像采集场景,适用于半导体、电子元器件、汽车零部件、食品包装等需要高精度视觉检测的制造行业。

    更新时间:2026-08-14
  • KDN KDFV2-40W镜面工件检测 LED照明灯光源 相机光轴同轴
    KDN KDFV2-40W镜面工件检测 LED照明灯光源 相机光轴同轴

    KDFV2系列是京都電機器推出的拟同轴落射照明LED产品镜面工件检测 LED照明灯光源 相机光轴同轴,采用半透镜设计使照明光路与相机光轴同轴,专门解决镜面/高反光工件的表面检测难题。核心优势包括可调分光比(5:5/6:4/7:3)。主要应用于半导体晶圆与封装基板检测、精密金属零件表面瑕疵识别、PCB及连接器缺陷检验、玻璃与光学镜片质量管控等高精度机器视觉场景等。

    更新时间:2026-08-14
  • KDFP-4W/KDFP-3WKDN LED平板面板照明图像处理光源 均匀照射
    KDFP-4W/KDFP-3WKDN LED平板面板照明图像处理光源 均匀照射

    这款LED平板灯主打高均匀性冷光输出 KDN LED平板面板照明图像处理光源 均匀照射 ,支持0~100%调光,专为图像处理场景提供无明显明暗差的稳定补光,保障图像采集的清晰度与一致性。广泛适配工业视觉检测、精密零部件质检、印刷品瑕疵检测、生物医学影像扫描等对光源均匀度要求较高的领域。

    更新时间:2026-08-14
  • KDN KDHM2/KDHM3系列面板光源 精密质检/图像采集用无暗区补光灯
    KDN KDHM2/KDHM3系列面板光源 精密质检/图像采集用无暗区补光灯

    这款LED平板灯主打高均匀性冷光输出 面板光源 精密质检/图像采集用无暗区补光灯 ,支持0~100%调光,专为图像处理场景提供无明显明暗差的稳定补光,保障图像采集的清晰度与一致性。广泛适配工业视觉检测、精密零部件质检、印刷品瑕疵检测、生物医学影像扫描等对光源均匀度要求较高的领域。

    更新时间:2026-08-14
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