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  • TE-660HD日本tekhne手持式露点仪
    TE-660HD日本tekhne手持式露点仪

    日本tekhne手持式露点仪TE-660HD 自动校准化学物质清除功能 特征 外形紧凑,方便携带 精度:±2℃dp(环境温度25℃时) 露点测量范围:-60至+20℃dp 高响应速度 4-20毫安输出 聚合物传感器具有自动校准功能和优异的长期稳定性 使用 4 节 AA 电池可运行 8 小时 追求简单的操作性和价格 自动校准(化学物质清除功能)

    更新时间:2024-11-20
  • RK1400 系列日本kofloc高精度流量计
    RK1400 系列日本kofloc高精度流量计

    日本kofloc高精度流量计RK1400 系列 ■目标流体:气体N2、空气、H2、He、Ar、O2、CO2等液体H2O ■最大流量:气体5mL/min至100L/min、液体5mL/min至2L/min ■精度:±2% FS ・内置于设备中 ・实验室内的流量确认用 ・半导体相关设备用 ・生物技术用

    更新时间:2024-08-26
  • DAY810日本disco半导体半自动研削机
    DAY810日本disco半导体半自动研削机

    日本disco半导体半自动研削机DAY810 1.简单紧凑的单轴研削机:单主轴,单工作台,结构简单紧凑的研削机。最大可对应Φ8英寸的加工物 2.节省空间的设计:设备尺寸为600(W)×1,700(D)×1,780(H) mm。实现了占地面积仅为1.02 m2的小型化设计。 3.实现更高精度研削结果的机械结构及研削方式:通过采用高刚性,低振动的主轴,实现了更好的研削加工品质。

    更新时间:2024-08-26
  • Z05 系列日本disco半导体电铸结合剂刀片
    Z05 系列日本disco半导体电铸结合剂刀片

    日本disco半导体电铸结合剂刀片Z05 系列 具有优良的切削能力、适用于从硬脆材料到半导体基板等各种切割加工。 加工对象:各类半导体封装、绿色陶瓷、硬脆材料等 标准型(D1结合剂) -集中度的选择范围最大可以分为6个等级,提供更细分化的品种选择。 -加工硬脆材料时,兼备加工品质和使用寿命的切割刀片。 注重加工品质型(D1A结合剂) -通过抑制刀刃部分的形状变化,可持续稳定良好的切削性。

    更新时间:2024-08-26
  • NBC-Z 系列日本disco半导体电铸结合剂刀片
    NBC-Z 系列日本disco半导体电铸结合剂刀片

    日本disco半导体电铸结合剂刀片NBC-Z 系列 适用于从晶圆到基板的各种切割加工,实现优良的切割能力 加工对象:硅晶圆、化合物半导体晶圆(GaAs、GaP等)、各类半导体封装等。 NBC-Z系列是由迪思科公司独的家设计开发出的超薄、高性能切割刀片。采用电铸型结合剂,同时实现了优良的切割能力和较长的使用寿命。另外,该产品系列种类齐全,能够广泛地适用于半导体晶圆,陶瓷及CSP等半导体封装材料的切割

    更新时间:2024-08-26
  • TUV-1T日本takatori半导体紫外线照射装置
    TUV-1T日本takatori半导体紫外线照射装置

    日本takatori半导体紫外线照射装置TUV-1T 1. 能够对切割胶带整个表面进行均匀照射。此外,它在晶圆表面内实现了均匀的照度。 2. 即使UV灯老化,高取独的特的技术也不会改变综合照度,也不影响吞吐量。 3. 采取措施防止真空或空气停止时框架掉落。 4.紫外灯更换工作简单。 5. 采用抑制电压波动引起的灯输出波动的控制方法,确保稳定的照射。

    更新时间:2024-08-26
  • NH-3MAs日本mitakakohki半导非接触式三坐标测量机
    NH-3MAs日本mitakakohki半导非接触式三坐标测量机

    日本mitakakohki半导非接触式三坐标测量机NH-3MAs 配备NH系列的所有基本形状测量功能,可以使用专用软件一次性测量透镜和模具的横截面形状,并测量曲率和中心坐标。

    更新时间:2024-08-24
  • MLP-3日本mitakakohki半导体全周长三维测量仪
    MLP-3日本mitakakohki半导体全周长三维测量仪

    日本mitakakohki半导体全周长三维测量仪MLP-3 非接触式全的方位轮廓测量:MLP-3 专门从事传统坐标测量机、投影仪和激光显微镜无法实现的复杂测量。点自动对焦探头和每个轴的控制(包括旋转)解决了困扰测量人员的问题。

    更新时间:2024-08-24
  • VUM-3500日本orc半导体UV照射器
    VUM-3500日本orc半导体UV照射器

    日本orc半导体UV照射器VUM-3500 用途:消除闪存和其他非易失性存储器、图像传感器等的电荷和数据 特长 -采用最的适合去除电荷的254nm波长。 -因为是单一波长可使低温处理成为可能。 -采用低入射角UV光,可以有效到达对象区域。 -降低了LSI的不良率・提高了信赖性。

    更新时间:2024-08-24
  • PPS-8200p1/8300p1日本orc半导体光刻机
    PPS-8200p1/8300p1日本orc半导体光刻机

    日本orc半导体光刻机 PPS-8200p1/8300p1 用途:支持各种应用 特长 -宽频谱光刻 (与菜单连动的 ghi线 gh线, i线的自动切换) -搭载可变NA功能 (可变为0.16和0.1) -最多8Field的拼接设计格式 -光学系统不受感光材挥发气体和周围环境中化学物质影响

    更新时间:2024-08-24
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