





产品型号:Micro Blast / 0.02μmRa
更新时间:2026-07-11简要描述:Sinto 硅/玻璃硬脆材料干式蚀刻 微喷砂加工 Micro Blast / 0.02μmRa,这项技术主要用于玻璃、硅、陶瓷等硬脆材料的高精度微细加工,如钻孔、开槽和切割。它适用于电子、半导体、传感器及精密制造等行业。
| 品牌 | 其他品牌 | 产地类别 | 进口 |
|---|---|---|---|
| 应用领域 | 环保,化工,能源,电子/电池,综合 |
日本新东工业(Sinto)关于其“微细加工技术"(Micro Blast)简单来说,这是一种利用压缩空气将极细的磨料颗粒(10μm~70μm)高速喷射到工件表面,从而实现高精度微细加工的“干式蚀刻"技术。这项技术特别适合加工玻璃、硅、陶瓷等硬脆材料,因为它属于冷加工,能极大减少微裂纹和材料变质。

工作原理:利用压缩空气,将10μm~70μm的微细磨料高速喷射到工件上,通过脆性破坏原理进行加工。
核心特点:属于冷加工、干式工艺,因此产生的微裂纹和加工变质极少,精度高、品质好。
主要优势:
干式无化学污染:不使用化学药液,环保。
损伤小:几乎不产生崩边(Chipping)和裂纹(Crack)。
效率高:加工速率快,生产性高。
成本低:相比激光、蚀刻等方法,初期投入成本更低。
适用广:可加工复杂形状,对多种材料都有效。

钻孔技术:在玻璃、硅、陶瓷等硬脆材料上加工通孔或盲孔。
精度:线宽可达50μm以上,深度误差在±5%左右。
应用:传感器基板、中介层基板的孔加工。
开槽技术:在材料上挖掘沟槽或流体通道。
精度:线宽可达50μm以上。
应用:嵌入式电极的沟槽、玻璃基板的流路、芯片实验室(Lab-on-a-chip)的流路形成。
切割技术:将玻璃薄板等材料进行精细切割。
去除技术:
全面去除:100%去除表面的涂膜、镀层、氧化物等。
部分去除:按特定图案去除表面附着物,精度可达50μm。
分层去除:选择性地去除顶层金属层,用于绝缘处理等,最大去除深度可达20μm。

Sinto 硅/玻璃硬脆材料干式蚀刻 微喷砂加工 Micro Blast / 0.02μmRa,这项技术主要用于玻璃、硅、陶瓷等硬脆材料的高精度微细加工,如钻孔、开槽和切割。它适用于电子、半导体、传感器及精密制造等行业。
Sinto 硅/玻璃硬脆材料干式蚀刻 微喷砂加工 Micro Blast / 0.02μmRa,这项技术主要用于玻璃、硅、陶瓷等硬脆材料的高精度微细加工,如钻孔、开槽和切割。它适用于电子、半导体、传感器及精密制造等行业。