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产品型号：SE 400adv
更新时间：2026-09-09简要描述：德国SENTECH 多角度激光椭圆偏振仪 SE 400adv 采用非接触式光学反射技术，用于精确测量薄膜厚度、折射率、吸收系数及偏振度等参数，可表征单层膜、多层膜堆叠及块体材料。适用于微电子、III-V族半导体、生物与生命科学、显示技术、磁介质、金属加工、太阳能电池等行业。
| 品牌 | 其他品牌 | 价格区间 | 面议 |
|---|---|---|---|
| 产地类别 | 进口 | 应用领域 | 汽车及零部件,综合,半导体,机械设备 |
| 亮点 | 说明 |
|---|---|
| 超高精度 | ψ 精度 0.002°、Δ 精度 0.002°；100 nm SiO₂/Si 膜厚精度 0.1 Å，折射率精度 5×10⁻⁴ |
| 超长时稳定性 | 24 小时长期稳定性：δ(ψ) = ±0.01°、δ(Δ) = ±0.1° |
| 多角度测量 | 手动测角仪支持 40°–90°（步长 5°），可执行快速可变角度测量，满足复杂样品和绝对厚度分析需求 |
| 宽测量范围 | 透明层总厚度最高 6 μm；弱吸收层（多晶硅）最高 2 μm |
| 高速测量 | 单次测量仅需 120 ms ~ 1.5 s（取决于测量模式） |
| 紧凑便携 | 仪器体积小，通过以太网连接任意 PC/笔记本即可控制，快速部署使用 |
高度稳相补偿器（C）：对 Δ 接近 0° 和 180° 区域提供卓的越的精度
计算机控制偏振器（P）：实现最的优的定位/跟踪和自校准能力
高稳定旋转分析器（A）：确保长期测量稳定性
HeNe 激光光源：632.8 nm，Class 1 安全等级
激光束直径：1 mm
样品台：固定式（z 轴 + 倾斜），支持最大 150 mm 晶圆
预设应用配方（Recipes）：覆盖介质层/硅、介质层/GaAs、有机层/玻璃、原生氧化层等多种常见应用，开箱即用
大型材料库：涵盖介质材料、弱吸收薄膜、晶态/非晶半导体、金属、有机物（聚合物/光刻胶）、玻璃、石英等
配方编辑便捷：可直接从材料库选取材料名称，修改衬底、环境或薄膜的光学常数
Goodness of Fit 图形反馈：实时显示测量数据与理论曲线的匹配度，快速判断样品状态是否正常
多语言支持：默认英语，可选德语，其他含西里尔字母或亚洲字符的语言可定制
标准测量模式：支持单角度和多重角度测量，可获取单层/多层膜的厚度、折射率 n、吸收系数 k 等参数
微电子：介质薄膜、半导体层表征
III-V 族半导体：GaAs 等化合物半导体薄膜
生物与生命科学：生物薄膜、有机涂层
显示技术：OLED/LCD 薄膜分析
磁介质：磁记录薄膜表征
金属加工：金属薄膜厚度与光学常数测量
太阳能电池：可测量非理想、散射较强的粗糙表面
| 选项 | 说明 |
|---|---|
| SE 400-1 | 微光斑模块 |
| SE 403 | 模拟仿真软件（SpectraRay/L） |
| SE PSV | 真空吸盘（替代标准样品台） |
| SE PXY / SE 14 / SE 15 / SE 16 | 手动/电动 X-Y 映射台（50/150/200 mm 行程） |
| SE 20 | 液体池 |
| SE AF | 自动对焦（配合映射功能） |
| SE 61 | 相机模块（替代自动准直望远镜） |
德国SENTECH 多角度激光椭圆偏振仪 SE 400adv 采用非接触式光学反射技术，用于精确测量薄膜厚度、折射率、吸收系数及偏振度等参数，可表征单层膜、多层膜堆叠及块体材料。适用于微电子、III-V族半导体、生物与生命科学、显示技术、磁介质、金属加工、太阳能电池等行业。
德国SENTECH 多角度激光椭圆偏振仪 SE 400adv 采用非接触式光学反射技术，用于精确测量薄膜厚度、折射率、吸收系数及偏振度等参数，可表征单层膜、多层膜堆叠及块体材料。适用于微电子、III-V族半导体、生物与生命科学、显示技术、磁介质、金属加工、太阳能电池等行业。
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