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日本yako-sangyo 半导体高纯气体压力表 HPG1 / HPG2 高纯气体压力表 HPG1系列（EP级） HPG2系列（BA的级） 专为半导体、电子、医疗、生物技术和制药行业使用的高纯度气体系统而设计。 产品规格 尺寸（外壳外径）35mm、50mm、63mm 形状：立式（低安装）、中心后安装、嵌入式
更新时间：2024-08-30
日本shibaura 皮拉尼真空计PG 系列 PG系列特点 1.不易发生故障的固定温度型 2.大型数字显示屏，可视性良好 3.机身较小，节省空间
更新时间：2024-09-02
美国Laurell ø200mm旋涂机WS-650-8B Laurell WS- 650-8 B 旋涂机 结构紧凑，功能先进。 这款 650 系列涂布机系统可容纳直径达ø 200 毫米的晶圆和 7 英寸 × 7 英寸 (178 毫米 × 178 毫米) 的基板，最大转速为12,000 RPM（基于直径ø 100 毫米的硅晶圆）。
更新时间：2024-09-02
日本add -120℃超低温冷冻柜 YFZ-1423 模型：YFZ-1423 电气规格-电源电压：三相AC200V 50/60Hz额定值：峰值时约10.5A / -120℃稳定时约8.5A功耗：稳定时最大3.0kW / 2.7kW 性能规格：冷却性能：-120℃至-130℃，制冷剂：特殊混合制冷剂（HFC），环境温度：10℃至28℃
更新时间：2024-09-02
日本moritex LED照明MCEC-CR8 ▪ 追求与MML的兼容性并实现高度的一致性。 ▪ 比MCEL-C*8 更高的照度（参见Pi-61 照度比较数据） ▪ 紧凑 ▪ 价格低廉 ▪ 使用MLEK 电源（参见Pi-62~）。可与多通道电源以及环形照明和背光一起使用
更新时间：2024-10-08
日本kohzu 自动旋转台 RA04A-W01 机械规格 模型：RA04A-W01 型号：RA04A-W01-R 指导方法：角轴承 旋转范围：±177° 分辨率 微步（1/20 格）：0.0002° 最大速度：20°/秒 累计误差：。≦0.02°/360° (平均0.0071°/360°) 偏转：≦20μm/360° (平均6.96μm/360°)
更新时间：2024-09-02
日本rikenkeiki 便携式组合X射线分析仪 DF-01 1.XRD、XRF，同一点两种分析。可以在同一点进行 X 射线衍射 (XRD) 和 X 射线荧光 (XRF) 两种类型的分析。换句话说，可以从使用两种不同测量方法获得的数据中获得高度准确的信息。 2.非破坏性、非接触式便携式分析设备。利用无损、非接触的分析方法，我们可以分析那些限制移动或出口的文物和文化资产……即使是所谓的“禁止
更新时间：2024-08-30
日本 jfe膜厚分布测量装置FDC-H1510 特征 1.能够测量6英寸晶圆的整个表面 2.能够以高分辨率（约5μm）测量整个样品表面和局部厚度 3.紧凑的设计，可安装在桌面上 4.基于高分辨率的局部测量 由于可以6um的高分辨率测量约3mm角，因此适用于需要局部测量的器件图案上等膜厚分布测量。 5.最大6英寸的全面测量
更新时间：2024-08-29
日本konicaminolta分光光度计CM-36dGV 日本NIPPON DENSHOKU 光谱颜色浊度测量仪器 主要用于粉末、颜料、纸张、纺织品等的色彩管理。 可以同时测量颜色和光泽，同时保持与 CM-3610A 的数据兼容性（*使用 SCI/LAV 时） 使用场景：纺织/服装
更新时间：2025-02-22
美国Laurell ø150mm旋涂机H6-23 劳雷尔 H6-23旋涂机 结构紧凑，功能先进，是安装在手套箱中最的简单的旋涂机。 这款 650 系列HL涂布机系统可容纳直径达ø 150mm 的晶圆和 5“ × 5“ (127mm × 127mm) 的基板，最的大转速为12,000 RPM（基于ø 100mm 硅晶圆）。
更新时间：2024-09-02
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