壷坂電機 LUV-1000半导体光刻/UV曝光装置

核心特点

1. 高精度曝光 — 采用 2kW 超高圧水銀ランプ，全光束 90,000lm，照射均匀性在有效面内达到 90% 以上

2. 平行度保证 — 照射平行度：准直半角 ≤2.0°，偏角 0.5°，确保曝光图案的高精度

3. 灵活调整 — 掩膜玻璃与样品之间的间隙可在 0～300μm 范围内调整，调整分辨率 1μm

4. 自动控制 — 通过专用 PC 软件（支持 Windows 10/11）和快门控制器进行控制，支持计算曝光量或曝光时间管理

5. 可定制 — 支持掩膜尺寸变更、样品尺寸变更、曝光强度变更、PC 软件功能修改等定制需求

主要规格

产品构成

• UV 曝光机本体 — 集成光源、电源、排气系统等

• 光源用电源部 — 内置于本体

• 无停电源装置（UPS） — 为 PC 等设备提供 AC100V 供电

• 快门控制器 — 内置，支持手动/自动曝光操作

• 桌面 PC & 显示器 — 内置，运行专用控制软件

• 曝光掩膜玻璃 — 由客户自备

可选配件 / 定制服务

适用领域： 该设备适用于需要高精度 UV 图案曝光的场合，如光刻、薄膜工艺、半导体制造、光学元件加工等精密制造领域

壷坂電機 LUV-1000半导体光刻/UV曝光装置 是一款采用 2kW 超高圧水銀ランプ的高精度 UV 曝光装置，通过平行光照射实现接触式/近接式图案曝光，支持掩膜玻璃自动平面校正与间隙微调。广泛应用于半导体光刻、薄膜工艺、光学元件加工、PCB 线路曝光及精密制造等领域，满足高精度图案转移的工业生产需求。

壷坂電機 LUV-1000半导体光刻/UV曝光装置 是一款采用 2kW 超高圧水銀ランプ的高精度 UV 曝光装置，通过平行光照射实现接触式/近接式图案曝光，支持掩膜玻璃自动平面校正与间隙微调。广泛应用于半导体光刻、薄膜工艺、光学元件加工、PCB 线路曝光及精密制造等领域，满足高精度图案转移的工业生产需求。