P.R.A. 静电吸盘ESC高压电源±1-8KV半导体用

1. 核心功能与优势

• 工艺保护：该电源具有低储能和内置电流限制功能，能有效防止浪涌和电弧，从而保护精密的加工过程不受损害。

• 广泛兼容性：适用于 Johnson-Rahbek (J-R) 型和 Coulomb 型两种主流的静电吸盘应用。

• 辅助脱盘：具备极性反转和自动放电功能，有助于改善晶圆的“去吸盘"过程，提高生产效率。

• 抗干扰设计：内置 RF Block Filter，可过滤 2MHz 至 13.56MHz 的射频干扰，确保在等离子体环境下的稳定性。

2. 产品系列与规格

PHV系列提供多种型号，涵盖了单极性、双极性及双极性中心抽头等多种输出类型，电压范围从 ±1KV 到 ±8KV，功率为 10W。该系列电源主要分为 双极性 (By-polar)、单极性 (Uni-polar) 和 双极性中心抽头 (By-polar Center Tap) 三种类型。

1. 双极性 (By-polar) 型号，此类型可提供正负对称的输出电压。

2. 单极性 (Uni-polar) 型号，此类型提供从零开始的单向输出电压。

3. 双极性中心抽头 (By-polar Center Tap) 型号，此类型为中心抽头配置，提供特殊的电压输出范围。

部分型号规格示例：

3. 控制与接口

• 输入电源：通用输入 85 至 264VAC，50/60Hz。

• 控制模式：支持本地控制（前面板开关/电位器）和远程控制（外部接口）。

• 显示与监控：前面板配有3位数字显示屏，可同时显示电压和电流。提供线性的电压（-10至+10VDC）和电流监控输出。

• 保护机制：具备过压限制（110%）和电流限制保护。高压关闭后，输出端会通过100K欧姆电阻自动放电。

4. 物理规格

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• 尺寸：260mm (宽) x 99mm (高) x 300mm (深)

• 特点：结构紧凑、重量轻，适合集成到各种设备机架中。

P.R.A. 静电吸盘ESC高压电源±1-8KV半导体用 PHV–020SB–01/PHV-0302B，PHV系列静电吸盘电源主要用于半导体制造行业。其核心用途是产生高压静电，驱动静电吸盘（ESC）在真空或等离子体环境中牢固吸附并固定晶圆，同时具备极性反转功能以辅助晶圆脱离。

P.R.A. 静电吸盘ESC高压电源±1-8KV半导体用 PHV–020SB–01/PHV-0302B，PHV系列静电吸盘电源主要用于半导体制造行业。其核心用途是产生高压静电，驱动静电吸盘（ESC）在真空或等离子体环境中牢固吸附并固定晶圆，同时具备极性反转功能以辅助晶圆脱离。