IMTEC Accumeg 半导体纳米 兆声波清洗槽

一、产品概述：Accumeg™ 兆声波清洗槽及系统

二、核心特性与技术规格

1. 主要特性

• 超长保修：提供长达 **个月的全面保修。

• 兼容性：支持最大 300 毫米及更大的晶圆基板，提供卡带式与无卡带式设计。

• 维护便捷：配备现场可更换的换能器阵列，便于维修和保养。

• 高性能：具备高功率密度，工作温度可达 70°C。

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2. 详细规格参数

• 兆声波频率：提供 975 kHz 和 730 kHz（±25 kHz）两种频率选项。

• 槽体材质：可选石英、PVDF 或 PFA。

• 换能器组件：采用 316L 电解抛光或 PFA/PTFE 涂层不锈钢板，电缆为 25 欧姆聚四氟乙烯护套（长 5 米）。

• 温度范围：边界层系统最高工作温度为 130°C，直接式系统为 65°C。

• 电气标准：工作电压为 208-230 VAC（单相），符合 CE 指令并通过第三方认证。

三、应用领域与行业解决方案

1. 湿法工艺解决方案

• 系统类别：包括 Wet Benches（湿法台）、Single Wafer（单晶圆）、FOUP/FOSB Cleaner（晶圆传送盒清洗）及 Marangoni Dryer（马兰戈尼干燥器）。

• 组件支持：涉及 Genius Gather（天才汇聚）、Kaiqiao（凯乔）、White Knight、SEBA 等组件。

2. 广泛的应用场景

• 纳米技术：3D 纳米雕刻、无掩模微加工、大距离无缝纳米图案化。

• 新能源与电子：薄膜太阳能电池、ITO（氧化铟锡）处理。

• 前沿科技：生物成像、生物医学设备涂层、量子技术。

IMTEC Accumeg 半导体纳米 兆声波清洗槽 UO1200PMCA 发生器，Accumeg™系统主要用于半导体晶圆（最大支持300毫米及以上）和电子元件的高精度清洗。其核心功能是利用兆声波技术（频率为975 kHz或730 kHz）进行湿法工艺处理，有效去除微小颗粒污染物。该设备提供石英和PVDF两种槽体材质，具备高功率密度和温度控制能力（最高达70°C或130°C）......

IMTEC Accumeg 半导体纳米 兆声波清洗槽 UO1200PMCA 发生器，Accumeg™系统主要用于半导体晶圆（最大支持300毫米及以上）和电子元件的高精度清洗。其核心功能是利用兆声波技术（频率为975 kHz或730 kHz）进行湿法工艺处理，有效去除微小颗粒污染物。该设备提供石英和PVDF两种槽体材质，具备高功率密度和温度控制能力（最高达70°C或130°C）......