Kokusai 高频超声波清洗机 晶圆/光刻掩模用

核心优势

• 低损伤、高精度清洗：通过高精度的输出功率反馈控制，即使在低功率下也能保持稳定，有效清洗的同时大幅降低对精密半导体器件的损伤。

• 高效率与紧凑设计：相比以往机型，能耗降低了 15%，同时体积和重量均减少了 30%，更加节能且节省空间。

• 频率固定：采用固定频率振荡，确保石英槽的超声波透过率始终保持一致，清洗效果稳定可靠。

• 远程控制：支持远程控制功能，便于集成到自动化生产线中进行操作。

主要用途

• 半导体晶圆清洗

• 光刻掩模版清洗

• 裸片（Die）的最终清洗

• 半导体制造设备治具清洗

产品规格

该产品符合 CE、FCC（需另购噪声滤波器）及 Semi-F47 等相关标准。

Kokusai 高频超声波清洗机 晶圆/光刻掩模用 UO1200PMCX，该产品主要用于半导体制造领域的高精度清洗，适用行业为半导体产业。其具体用途包括半导体晶圆、光刻掩模、裸片最终清洗以及半导体制造设备治具的清洗，旨在满足微缩工艺下的低损伤、高洁净度清洗需求。

Kokusai 高频超声波清洗机 晶圆/光刻掩模用 UO1200PMCX，该产品主要用于半导体制造领域的高精度清洗，适用行业为半导体产业。其具体用途包括半导体晶圆、光刻掩模、裸片最终清洗以及半导体制造设备治具的清洗，旨在满足微缩工艺下的低损伤、高洁净度清洗需求。