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NGK MEGCON II+ PRC系列:半导体制造专用超纯水防静电解决方案

更新时间:2026-01-06      浏览次数:37


📄 一、文档概览与产品简介

1. 产品定义

MEGCON II+ 是一种通过特殊中空纤维膜向超纯水中溶解二氧化碳气体,从而控制超纯水比电阻值的装置。

2. 应用背景

在半导体精密清洗中,超纯水因缺乏离子成分易产生静电,导致电路破坏或微粒子再附着。该设备通过降低比电阻值赋予水导电性,防止静电故障。

3. 主要应用领域

包括掩膜版/光罩(Mask/Reticule)、晶圆工艺(Wafer processing)、划片工艺(Dicing process)、液晶工程及CMP工程等。

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🛠️ 二、产品系列与规格参数

1. 产品系列分类

文档列出了两大系列,主要区别在于安装类型和气源供给方式:

  • 柜式(Cabinet type):内置空气泵,型号为PRC II。

  • 机架式(Rack type):分为内置空气泵(PRC II)和外部供气(FRC II)两种。

2. 型号与性能参数

文档提供了详细的参数对比表,涵盖以下关键指标:

  • 型号:1000ACD, 1200ACD, 2000ACD, 1220ACD, 2040ACD(柜式);1000AD, 1200AD, 2000AD, 1220AD(机架式)。

  • 最的大流量:范围从1000 L/hr 到 4000 L/hr(2040ACD型号)。

  • 控制范围:根据不同型号,比电阻控制范围在0.1 MΩ·cm 到 2.0 MΩ·cm之间。

  • 外形尺寸与重量

    • 柜式:520W×400D×1150H mm,重65kg。

    • 机架式:480W×355D×200H mm,重15kg。

  • 接液部材质:细胞(气体导入部)为PP,配管为PVC或波纹管。

3. 使用环境与公用设施要求

  • 超纯水:压力常用0.35MPa以下(最的大0.45MPa),温度5~35℃,水质10MΩ·cm以上。

  • CO₂气体:压力0.1~0.2MPa,纯度99.5%以上。

  • 电源:AC100-240V (50/60Hz)。

✨ 三、核心功能与技术特点

1. 自动控制性能

  • 流量变动适应:即使流量波动,也能自动将比电阻值控制在设定值。

  • 多种控制模式:根据使用点数量和流量,提供传感器测量控制、解离预测控制、流量预测控制三种模式。

  • 小流量控制:改善了小流量时的控制能力。

2. 操作界面与通信

  • 触控屏幕:主画面集成必要信息,可视性好,新增密码锁和警报历史功能。

  • SECS转换器:新增半导体制造设备SECS通信接口,可向主机发送比电阻、温度、水量及报警数据。

  • 数据存储系统:可将数据导入PC,以图表形式显示变化并保存,用于清洗作业的品质管理。

3. 膜寿命管理

采用中空纤维膜,相比鼓泡方式无粒子混入且CO₂消耗少;配备膜干燥功能,在未使用时自动干燥膜,延长膜的使用寿命。

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