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更新时间：2026-01-07 
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🛡️ 一、产品背景与核心功能
在半导体制造中，超纯水因离子成分极低，清洗时容易产生静电，导致电路破坏、表面荷电及微粒子再附着等不良现象。
MEGCON通过向超纯水中溶解碳酸气体（形成酸性功能水），有效消除静电，从而解决因静电引起的障碍，降低产品不良率，提升良品率。
该设备广泛应用于对洁净度要求极的高的精密清洗环节，具体包括：
半导体制造：晶圆切割（Dicing）工程清洗、高压喷射清洗、洗涤塔（Scrubber）清洗。
显示面板制造：液晶面板、光掩膜（Photo Mask）及光罩（Reticle）的清洗。
微粒子混入风险低，且碳酸气体消耗量少。
装置进出口的超纯水压力损失小，不影响水路系统。
采用反馈控制技术，即使流量波动，也能迅速控制至目标比电阻值。
提供符合欧洲安全标准的CE标记系列，支持出口。
具备大流量处理能力，满足不同规模生产线的需求。
利用膜分离技术，将碳酸气体通过膜介面溶解于超纯水中。
柜式（Cabinet Type）：型号如 PRCⅡ+ - 1000ACD，分为标准型和S型（带蜂鸣器、双色灯塔、脚轮）。
机架式（Rack Type）：型号如 PRCⅡ+ - 1000AD（内置气泵）及 FRCⅡ+ 系列（外部供气）。
最的大流量：提供1000L/hr、2000L/hr、4000L/hr等多种规格。
控制范围：0.1-0.5 MΩ·cm 至 0.2-2.0 MΩ·cm（视具体型号而定）。
尺寸与重量：
柜式：约520W×400D×1150H mm，重量约65-71kg。
机架式：约480W×355D×200H mm，重量约15kg。
连接口径：Rc1/2 至 Rc1 1/4（柜式），IDφ19（机架式软管接口）。
超纯水：压力0.35MPa以下（常用），温度5-35℃，水质10MΩ·cm以上。
碳酸气体：压力0.1-0.2MPa，纯度99.5%以上。
电源：AC100-240V（50/60Hz）。
该网页详细展示了MEGCON系列如何通过创新的气体溶解技术解决半导体制造中的静电难题，其精准的流量控制和多种规格配置体现了NGK在工业精密清洗领域的技术实力与定制化服务能力。
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