NGK MEGCON：超纯水带电防止技术在精密制造中的应用

更新时间：2026-01-07

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在半导体与电子元件的制造流程中，清洗环节至关重要。然而，作为清洗介质的超纯水（UP Water），由于其离子含量极低，在特定工况下容易引发静电问题，进而影响产品的良率。

针对这一行业共性难题，NGK公司开发了MEGCON系列超纯水带电防止器。该设备旨在通过技术手段，解决超纯水清洗过程中的静电积聚问题。

解决半导体清洗静电难题：NGK MEGCON超.png

超纯水的高电阻率使其接近于绝缘体。在流经管道或进行高压喷射清洗时，水流与管壁的摩擦会导致静电荷在物体表面积聚。

这种静电积聚可能带来两方面的直接影响：

电路损伤风险：静电放电可能对精密电路造成损害。

污染风险：带电表面容易吸附环境中的微粒子，增加产品缺陷的可能性。

MEGCON的设计理念是预防静电的产生，而非事后消除。其工作过程不涉及对水温的调节，而是通过改变水的电学特性来实现防静电功能。

该设备的核心组件采用膜分离技术，将**碳酸气体（二氧化碳）**溶解于超纯水中。气体溶解后形成微量碳酸，产生离子，从而适度降低水的电阻率，赋予其导电能力。

经过处理的水被称为 “酸性功能水" 。它在保持高洁净度的同时，能够及时导走摩擦产生的电荷，有效防止静电积聚，降低电路损伤和微粒子吸附的风险。

MEGCON系列在设计上注重实用性与稳定性，主要特点包括：

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稳定的控制能力：采用反馈控制机制，能够在流量变化时，维持设定的比电阻值。

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低维护需求：设备结构设计减少了微粒子混入的风险，且进出口压力损失较小。

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多样的型号配置：提供**柜式（Cabinet Type）和机架式（Rack Type）**等多种型号，以适应不同的安装环境和流量需求。

目前，该技术已在多个关键制造领域得到应用：

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半导体制造：适用于晶圆切割（Dicing）清洗、高压喷射清洗及洗涤塔（Scrubber）等工序。

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显示面板行业：用于液晶面板、光掩膜（Photo Mask）及光罩（Reticle）的清洗。

NGK MEGCON超纯水带电防止器，通过独特的气体溶解技术，为解决半导体及精密电子制造中的静电问题提供了一种可行的方案。它体现了NGK在工业清洗辅助技术方面的积累，为相关制造工艺的稳定运行提供了支持。