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产品分类技术文章/ article
在PCB基板显微成像检测工作中，强光输出、亮度稳定性直接决定缺陷识别效果。普通光源容易出现亮度衰减、光照波动、发热严重等问题，影响图像一致性，造成误检漏检。CC...
在激光粉末床熔融、激光淬火、半导体激光剥离等高动态加工场景中，熔池区域温度瞬息万变，微小光斑、瞬时高温、烟尘干扰等问题，极易造成测温失真，难以实现稳定工艺管控。德国SensorThermHELIOSH422高速光纤双色测温仪，凭借微秒级响应...
在半导体、太阳能电池生产、光学器件制造以及微纳米技术领域，SONOSYS兆声波系统可对敏感工件表面实现纳米级微小颗粒清洗。兆声波系统能够清洗硅片、光掩模等产品，还可将微粒从微结构沟槽中剥离，且不会造成工件损伤。SONOSYS可精准、高效地针...
SONOSYS®由约翰·布鲁纳（JohannBrunner）和约阿希姆·施特拉克（JoachimStrack）于1995年创立。公司通过大量研发投入，按德国及欧洲相关标准，批量生产模块化的高品质兆声波（Megasonic）清洗系统。...
Sonosys是一家德国大型超声波清洗专业制造商。其核心产品大型超声波清洗喷嘴采用了专的利的"蝴蝶振动子"技术，走的是与日本国内厂商不同的"突破物理极限"路线。核心技术与结构特点专的利的"蝴蝶压电陶瓷"日本国内厂商多采用加工精度高、稳定性好...
在半导体晶圆、LCD面板、MEMS微器件制造工艺中，微米、纳米级微小颗粒污染，是直接影响产品良率的关键难题。传统低频超声波清洗应用广泛，但面对超薄衬底、精细微结构元器件时，剧烈的清洗作用力极易造成基材表面蚀损、结构破坏。在此背景下，兆声波（...
在半导体晶圆、光掩膜、光学玻璃基板、光学镜片制造工序中，微米级划痕、表面微粒、雾斑、清洗残留污渍、亚表面缺陷依靠普通照明很难识别，极易造成漏检。日本S-VANS旗下SENASuperbeam高照度目视检查照明装置，凭借数十年光学检测技术积累...
光掩膜作为半导体光刻工艺的核心母版，基板表面微米级细微划痕、清洗残留微粒、雾斑缺陷会直接造成晶圆图形转移不良，引发批量报废。常规室内照明、普通LED目视光源照度不足、光谱单一，浅划痕对比度极低，极易出现漏检问题。在光掩膜来料检验、清洗后巡检...
在半导体、精密光学、显示面板制造领域，透明基材、超抛光工件表面微米级划痕、内部气泡、微小异物、雾斑等缺陷，依靠普通室内照明、常规LED光源很难被肉眼识别，极易造成漏检，直接影响成品良率。日本INTECS推出的UIH-3D超高辉度照明装置，作...
高亮度卤素灯光源装置和高亮度LED光源装置是山田光学工業株式会社生产的产品，属于宏观观察用照明装置。该产品用于半导体晶圆（ウェハー）和液晶基板加工过程中，对最终仕上面进行异物、划痕、研磨不均、雾状浑浊、滑痕等各种缺陷的检测。其照度达到太阳光...
在精密制造的质检环节里，薄膜、涂层的微小不均缺陷一直是行业公的认的检测难题：传统白色LED光源无法生成有效干涉条纹，难以将细微的涂布差异可视化；老旧的三波长荧光灯、钠灯不仅设备老化维护麻烦，成像清晰度也早已跟不上当下的高精度质检要求，很容易...
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