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  • ADVANTAGE-3 300W~1200WOTARI 超声波清洗机用発振器
    ADVANTAGE-3 300W~1200WOTARI 超声波清洗机用発振器

    OTARI 超声波清洗机用発振器 ADVANTAGE-3 300W~1200W ADVANTAGE系列是一款功能最基础、体积小巧且性价比极的高的超声波振荡器系列。其中,尤其备受青睐的28kHz和40kHz振荡器采用了复合技术:通过频率自动跟踪机制,根据清洗槽内液体深度自动优化振荡频率;同时结合自动输出控制技术,可稳定地调节振荡器输出功率。

    更新时间:2026-07-09
  • ADVANTAGE-3型OTARI 超声波清洗机发生器
    ADVANTAGE-3型OTARI 超声波清洗机发生器

    OTARI 超声波清洗机发生器 ADVANTAGE-3型 ADVANTAGE系列是一款功能最基础、体积小巧且性价比极的高的超声波振荡器系列。其中,尤其备受青睐的28kHz和40kHz振荡器采用了复合技术:通过频率自动跟踪机制,根据清洗槽内液体深度自动优化振荡频率;同时结合自动输出控制技术,可稳定地调节振荡器输出功率。

    更新时间:2026-07-09
  • 13790-023  400 kHz  5 MHzSonosys Megasonic 兆声波清洗机发生器仪器
    13790-023 400 kHz 5 MHzSonosys Megasonic 兆声波清洗机发生器仪器

    Sonosys Megasonic 兆声波清洗机发生器仪器 13790-023 400 kHz 到 5 MHz ,兆声波喷嘴中的换能器产生兆声波,通过流动介质(例如去离子水)传递到基板表面。兆声波能量集中在2毫米或4毫米的窄点上。SONOSYS® 兆声波喷嘴的频率有600kHz / 1MHz / 2MHz / 3MHz / 4MHz / 5MHz和9MHz。频率越高,清洗越温和

    更新时间:2026-06-10
  • SUC-170H/SUC-320H日本suzuho 不锈钢超声波 清洗机
    SUC-170H/SUC-320H日本suzuho 不锈钢超声波 清洗机

    日本suzuho 不锈钢超声波 清洗机 SUC-170H/SUC-320H 所有型号均标配温度调节和清洁定时器。 所有型号均标配温度调节(30℃~80℃)和清洁定时器(0~60分钟*170H最多15分钟)。

    更新时间:2024-08-02
  • ProSys仪器MegPie V3兆声波Megasonic换能器
    ProSys仪器MegPie V3兆声波Megasonic换能器

    ProSys仪器MegPie V3兆声波Megasonic换能器,该产品主要用于半导体制造中的晶圆清洗和声化学处理。

    更新时间:2026-06-10
  • 28kHz型日本nalex新声波
    28kHz型日本nalex新声波

    日本nalex新声波28kHz型 数字幅度控制 过载保护电路 自动调整功能 与市售刀片兼容,耗材易于获取。 振荡输出显示功能(测试振荡时) 振荡频率显示功能(测试振荡时)

    更新时间:2024-07-13
  • L/HI/B/S-2515-6日本nalex超声波换能器
    L/HI/B/S-2515-6日本nalex超声波换能器

    日本nalex超声波换能器L/HI/B/S-2515-6 数字幅度控制 过载保护电路 自动调整功能 与市售刀片兼容,耗材易于获取。 振荡输出显示功能(测试振荡时) 振荡频率显示功能(测试振荡时)

    更新时间:2024-07-13
  • MSMO032090E / 13407-091SONOSYS 超声波发生器 2MHz+4MHz 兆声 喷嘴
    MSMO032090E / 13407-091SONOSYS 超声波发生器 2MHz+4MHz 兆声 喷嘴

    SONOSYS 超声波发生器 2MHz+4MHz 兆声 喷嘴 MSMO032090E / 13407-091,该产品是SONOSYS®兆声波雾化系统,通过高频声波将液体雾化成约3微米的微细颗粒。主要用于半导体晶圆、平板显示器及太阳能电池等领域的精密喷雾、化学品分配和微清洗,确保高精度与无颗粒污染的工艺要求

    更新时间:2026-07-25
  • UO1200PMCA 发生器IMTEC Accumeg 半导体纳米 兆声波清洗槽
    UO1200PMCA 发生器IMTEC Accumeg 半导体纳米 兆声波清洗槽

    IMTEC Accumeg 半导体纳米 兆声波清洗槽 UO1200PMCA 发生器,Accumeg™系统主要用于半导体晶圆(最大支持300毫米及以上)和电子元件的高精度清洗。其核心功能是利用兆声波技术(频率为975 kHz或730 kHz)进行湿法工艺处理,有效去除微小颗粒污染物。该设备提供石英和PVDF两种槽体材质,具备高功率密度和温度控制能力(最高达70°C或130°C)......

    更新时间:2026-07-07
  • UO1200PMCXKokusai 高频超声波清洗机 晶圆/光刻掩模用
    UO1200PMCXKokusai 高频超声波清洗机 晶圆/光刻掩模用

    Kokusai 高频超声波清洗机 晶圆/光刻掩模用 UO1200PMCX,该产品主要用于半导体制造领域的高精度清洗,适用行业为半导体产业。其具体用途包括半导体晶圆、光刻掩模、裸片最终清洗以及半导体制造设备治具的清洗,旨在满足微缩工艺下的低损伤、高洁净度清洗需求。

    更新时间:2026-07-07
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