Kokusai Electric晶圆兆声波清洗机 振动板，UO1200PMCX 730kHz/1MHz，该产品是用于半导体制造的高频超声波振子，通过730kHz或1MHz频率实现低损伤、高洁净度清洗。主要适用于晶圆、光刻掩模等精密清洗环节，是半导体行业关键制程设备的核心组件。

Kaijo Quava Mega Puck Flow 系统 HDD介质 硬盘制造FPD玻璃清洗发生器换能器 专为 HDD 介质与 FPD 玻璃清洗设计。其核心发生器（30110）支持 950kHz 高频与 0.1W 精准调节，配合 38S/38Q/38Sa 等多材质换能器，将高功率声能直接作用于目标，实现超精细清洗。

Sonosys 兆声波数字显示屏电源发生器Modbus 这款产品是专为兆声波清洗应用设计的高的端的数字电源。它通过高精度的数字技术，实现对清洗过程的精准功率控制，确保清洗效果。主要适用于半导体、电子元件、精密光学及医疗器械等需要高精度清洗的行业。

德国sonosys 微颗粒无损 高频超声波清洗机 750kHz~4MHz，SONOSYS超音波清洗器利用20kHz~4MHz宽频超音波振动，对精密部件进行高效清洗，其中高频兆声波（750kHz~4MHz）专攻亚微米级颗粒去除，同时不损伤工件表面，清洗时间约10~30分钟，广泛适用于半导体晶圆、光学镜头、MEMS传感器、医疗器材及航空航天精密零件等对洁净度和表面完整性要求非常高的行业。

W-357BM 系列 1MHz 高频分离式超声波清洗系统分离式高频超声波清洗机光电半导体湿法清洗，发生器与清洗槽分体布局，可接入洁净车间自动化产线。1MHz 温和兆声实现精密无损清洗，精细功率可调，支持远程通讯控制，高效清除晶圆、光学基板表面亚微米颗粒与残留物，广泛应用半导体、光电、精密电子制造领域。

ADVANTEGE-MULTI 600W 三频切换超声波振荡器，三频切换超声波振荡器光掩模基板预处理空化 ，可切换三种频率，兼顾强力粗洗与柔和精密清洗，支持功率可调、远程 PLC 联动。适配全自动清洗产线，广泛用于精密电子、光学元件、模具机械零件、医疗器械等领域，实现工件除油、除屑、精密洁净清洗。

chiyoda中频超声波清洗机HRS系列 一种紧凑型高压灭菌测试仪，用于通过加压去除薄膜、树脂等中的气泡并提高粘合力。

Kaijo Quava Mega Puck Flow 半导体/硬盘/平板 950kHz 高频兆声波清洗机 是一款专为半导体、硬盘及平板显示行业打造的 950kHz 高频兆声波清洗系统。它通过高流速、高转速设计，将声能直接作用于目标物体，实现硅晶圆、HDD 介质及 FPD 玻璃的超精细精密清洗。

SONOSYS MHM/MLM/MSM 半导体晶圆清洗微系统MEMS兆声波发生器 德国SONOSYS Slim Line系列兆声波发生器专为纳米级无损精密清洗设计。通过高频兆声波温和剥离亚微米颗粒，适用于半导体晶圆、光掩膜、MEMS器件、精密光学及显示面板等行业，有效保障高价值器件良率。

KAIJO QUAVA mini QR-003兆声波清洗系统 是一款由 Kaijo生产的 950kHz 高频兆声波清洗系统，型号为 30110（QR-003），专用于硅晶圆、HDD 介质及 FPD 平板显示玻璃的超精细精密清洗。其兆声换能器通过大表面扫描将高功率声能直接作用于目标物体，具备更高流速与旋转速度，适用于半导体制造、硬盘生产及平板显示等高精度清洗行业。