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产品型号：Torin G8
更新时间：2026-07-08简要描述：Doi Precision Lapping 光掩模平整检测设备 Torin G8 ，该设备用于高精度测量半导体光掩模基板的厚度与两面平面度，采用非接触式激光传感技术，适用于半导体制造、集成电路光刻、平板显示及石英基板加工等行业，确保掩模版在芯片制造过程中的精度与良率。
| 品牌 | 其他品牌 | 产地类别 | 国产 |
|---|---|---|---|
| 应用领域 | 环保,化工,能源,电子/电池,综合 |
这是制造商为日本土井精密ラップ株式会社（Doi Precision Lapping Co., Ltd.）生产的一款光掩模基板检查装置（Flatness Tester for Photomask），主要用于高精度测量大型光掩模基板的厚度和平面度。
型号：Torin G8 和 Torin G10（两种尺寸规格）
核心功能：将光掩模基板垂直立起（无应力状态），使用非接触式半导体激光传感器，高精度测量基板的厚度和平面度。
应用场景：面向半导体或显示面板制造中，大尺寸石英光掩模基板的表面质量检测。
测量方式：基板垂直放置，利用两组对向的激光传感器（分别针对镜面和粗糙表面）进行测量。
高精度轴系：测量轴采用空气轴承，长期保持高精度；主基座和滑轨使用印度黑花岗岩（Micro Granite®），稳定性优异。
计算机控制：伺服电机驱动，速度和定位由电脑控制，可灵活设定。
最大测量能力：G8 为 1400×1600mm，G10 达 2000×2100mm。
| 项目 | G8 | G10 |
|---|---|---|
| 最大测量尺寸 | Y1400 × 1600mm | Y2000 × 2100mm |
| 测量厚度范围 | 5～20mm | 5～20mm |
| 镜面传感器（Sensor 1） | CHR E（范围5～25mm，分辨率0.8μm） | 同左 |
| 粗糙面传感器（Sensor 2） | LK-G85（范围28mm，分辨率0.2μm） | 同左 |
| 设备尺寸（W×D×H） | 2900×1500×2500mm | 3600×1600×3500mm |
| 重量 | 8吨 | 12吨 |
Doi Precision Lapping 光掩模平整检测设备 Torin G8 ，该设备用于高精度测量半导体光掩模基板的厚度与两面平面度，采用非接触式激光传感技术，适用于半导体制造、集成电路光刻、平板显示及石英基板加工等行业，确保掩模版在芯片制造过程中的精度与良率。
Doi Precision Lapping 光掩模平整检测设备 Torin G8 ，该设备用于高精度测量半导体光掩模基板的厚度与两面平面度，采用非接触式激光传感技术，适用于半导体制造、集成电路光刻、平板显示及石英基板加工等行业，确保掩模版在芯片制造过程中的精度与良率。
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