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更新时间:2026-04-20
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在半导体和液晶制造中,最头疼的问题往往不是肉眼可见的大划痕,而是那些微小的、肉眼不可见的微粒(Particles)、微小划痕或异物。普通的照明光源由于光谱杂乱,很难将这些微米级缺陷显现出来。
1. 核心技术:光谱筛选原理
波长切断: 该滤镜能精准切断500nm以下的短波长光线。这意味着它能有效防止光阻(Resist)在检查过程中发生意外感光,保护光刻工艺的良率。
视觉增强: 滤镜保留了人眼最敏感的546nm和578nm波长光线。在这一特定波段下,光线在平整表面与瑕疵处的反射差异被极度放大,原本透明或反光率极低的微小缺陷会因为光的散射而变得清晰可见。
2. 独的特的产品优势
超高清分辨率: 能够确认10μm以下的微小划痕、污渍及异物,满足半导体和精密模具的严苛检测需求。
无闪烁电子镇流器: 采用电子点灯方式,彻的底的消除肉眼难以察觉的频闪。这对于需要长时间进行目视检查的作业员来说,能大幅减少眼部疲劳,提升检查的准确性和作业性。
灵活的机械结构: FY-100R配备了万向臂(Flexible Arm),光源角度可以自由调整,配合调光旋钮(35W~100W可调),无论是检查大型模具还是微小晶圆,都能找到最佳的照明方案。
3. 典型应用领域
FY-100R广泛应用于以下高精尖领域:
半导体: 硅片(Wafer)、光掩膜(Photomask)表面检查。
电子元件: LED基板、触摸屏(Touch Panel)、精密连接器。
精密加工: 铝/不锈钢/铜等金属表面、精密模具(金型)。
如果说FY系列是精密制造的“显微镜",那么Funatech的黑光灯(Black Light)系列则是工业探伤的“探照灯"。在标题中提到的ML-3500S,实际上是厂家Black Light章节下的ML-3500S型(注:该型号对应35W微波放电灯,通常用于特定固化或检查场景,但在黑光大类中属于高功率代表)。
黑光灯发射的是长波紫外线(UV-A),主要用于激发物质的荧光反应。
非破坏性检查: 用于检测油脂、润滑油残留或特定的荧光物质。
PDP面板检查: 文档特别指出可用于PDP(等离子)面板的荧光体检查。
基板污染检测: 检查电路基板上的助焊剂残留(Flux)或污染物(Contamination)。
2. 产品特性
高辐照度: 文档中列出的黑光灯型号(如ML-3500S)通常具备较高的紫外线输出强度(如特定型号在38cm处可达50,000μw/cm²),确保在工业环境下能迅速激发荧光。
安全设计: Funatech的黑光灯配备了特殊的滤光片,能有效阻挡有害的短波紫外线(UV-B/UV-C),保护操作人员的眼睛和皮肤。
注意防护: 尽管有滤光片,文档特别强调:使用黑光灯时,必须佩戴专用的安全眼镜(UV防护眼镜),以防紫外线对眼睛造成伤害。
为了帮助您更好地根据生产需求选择设备,我们整理了这两款设备的关键参数对比:
在追求极的致的良率的半导体与液晶制造领域,光源的选择直接决定了缺陷检出的效率。
如果您需要在无尘室或光刻工艺中检查微米级的物理缺陷(如划痕、颗粒),FY-100R 凭借其切断短波长的特性,是保护光阻并清晰成像的最的佳的选的择。
如果您需要在机械加工或特定面板工艺中寻找肉眼不可见的油污或荧光残留,Funatech的黑光灯系列(如ML-3500S) 则能提供强大的紫外线激发能力。
无论是哪一种,Funatech的产品都致力于通过精准的光学控制,为现代工业制造提供一双洞察秋毫的“火眼金睛"。
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