面向半导体精密制造：SONOSYS 兆声波单/双/三喷嘴的非接触式清洗方案

更新时间：2026-07-16

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在半导体、平板显示及精密光学等高的端的制造领域，对产品表面洁净度的要求已逼近物理极限。任何纳米级的颗粒或污染物都可能导致良率下降甚至产品失效。如何在不损伤精密基片的前提下，实现高效、精准的清洗，成为行业面临的核心挑战。SONOSYS® 凭借其专有的兆声波技术，为这一难题提供了创新的解决方案——兆声波单/双/三喷嘴系统。该系统代表了先进的无槽式、非接触清洗工艺，专为满足最严苛的洁净度要求而设计。

面向半导体精密制造：SONOSYS 兆声波单/双/三喷嘴的非接触式清洗方案

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核心技术：能量高度集中的非接触清洗

SONOSYS® 兆声波喷嘴系统的核心在于其独特的能量传递方式。系统内置的换能器会产生高频兆声波，这些声波通过流动的液体（如去离子水）作为介质，被精确地传导至基片表面。

与传统清洗方式不同，该技术能将兆声波能量高度集中在一个直径仅为 2 或 4 毫米的微小作用点上。这种“点对点"的精准清洗模式，不仅避免了清洗槽可能带来的交叉污染，更实现了对特定区域的靶向清洁，确保了清洗过程的高效与可控。

产品系列：覆盖多场景的频率选择

为应对不同尺寸颗粒和多样化的应用需求，SONOSYS® 提供了丰富的产品频率选择，确保为特定工艺匹配最的优的解。

标准高频系列：1 MHz / 2 MHz / 3 MHz / 4 MHz / 5 MHz，适用于清除纳米级别的微小颗粒和污染物。
全新低频选项：600 kHz，专为清洗光学行业等领域中尺寸相对较大的颗粒而设计，扩展了技术的应用边界。

此外，系统提供单喷嘴、双喷嘴及三喷嘴等多种配置，可根据产线节拍和清洗面积灵活部署，最的大的化生产效率。

应用领域：赋能高精尖产业

凭借其卓的越的清洗性能，SONOSYS® 兆声波喷嘴系统已广泛应用于对洁净度有极的致的追求的多个行业：

半导体与微电子：单晶圆（Single Wafers）、光罩（Masks）、微机电系统（MEMS）的精密清洗。
平板显示：液晶显示器（LCD）及其他各类基板的清洗。
光学行业：利用 600 kHz 频率有效清除光学元件表面的较大颗粒污染物。
医疗器械：高价值医疗设备及高灵敏度传感器的精密清洗。

关于 SONOSYS

SONOSYS® 专注于 400 kHz 至 5 MHz 高频段的超声波及兆声波清洗技术，致力于解决纳米级的清洗挑战。自1995年成立以来，公司坚持全链条自主研发，产品覆盖从发生器、采用专的利的压电陶瓷的换能器板到浸没式换能器及各类喷嘴，已发展成为欧洲兆声波技术的领的军的企业。

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