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更新时间:2026-02-05
浏览次数:21在自来水厂、泳池水处理及海水淡化系统中,余氯(Free Chlorine)是衡量水质消毒效果的关键指标。然而,对于现场运维工程师而言,余氯分析仪往往是一个“麻烦"的存在:电极易受水中杂质、藻类或生物膜的污染,导致测量数据漂移、响应迟缓。为了维持准确性,不得不投入大量人力进行频繁的拆卸、化学清洗和校准。
这种传统的维护模式不仅增加了运营成本,更可能因为维护期间的数据缺失而带来水质安全隐患。
HORIBA 推出的 HR-200 现场安装型余氯计,正是为了解决这一行业痛点而生。它通过独特的物理研磨清洗技术与极谱法测量原理的结合,重新定义了在线余氯监测的“免维护"标准。

传统的膜法余氯电极在长期运行中,面临两大挑战:
物理污染: 水中的悬浮物、油污或结垢物质会附着在电极表面或隔膜上,阻碍氯气的扩散。
化学毒化: 硫化物、重金属离子等可能渗透膜层,毒化电极内部的催化剂,导致灵敏度下降。
维护困境: 一旦污染,通常需要人工使用酸碱试剂清洗,甚至更换隔膜,维护周期短且操作繁琐。
HR-200 并非简单的传感器升级,而是一套完整的抗污染解决方案。它通过以下核心技术,从根本上解决了电极污染难题:
独特的物理研磨清洗(Bead Cleaning):这是 HR-200 最的大的亮点。设备内置玻璃珠(Beads),在测量过程中,玻璃珠会持续对电极表面进行物理研磨和抛光。
效果: 能够自动刮除电极表面的生物膜、结垢和附着物,始终保持电极表面的“新鲜"与洁净,无需人工拆机清洗。
极谱法测量(无需试剂):与需要添加昂贵化学试剂的比色法不同,HR-200 配合 RA-20 传感器采用极谱法原理。
优势: 在不使用任何试剂的情况下,即可实现对游离余氯浓度的连续、高精度监测,彻的底消除了试剂消耗成本及试剂管路堵塞的风险。
双重清洗机制:除了物理研磨,HR-200 还支持电化学清洗功能。通过施加特定电压,进一步去除电极表面的有机污染物,物理与电化学双重手段确保了在恶劣工况下的长期稳定性。
除了抗污染能力,HR-200 在硬件设计上也充分考虑了现场应用的复杂性:
坚固防护: 采用IP65 防护等级的铝合金外壳,配合 SUS304 不锈钢安装支架,能够直接安装在室外立柱或墙面上,无惧风吹日晒雨淋。
智能自诊断: 内置完善的自诊断功能,可实时监测校正错误、温度传感器故障及变送器异常。一旦发现问题,立即通过报警触点输出信号,提醒运维人员,避免“带病运行"。
数据互联: 提供 2 点 4~20mA 模拟输出(绝缘型)及 RS-485 通讯接口,轻松接入中控室或 PLC 系统,实现远程监控。
HR-200 的“免维护"特性使其在以下场景中表现尤为出色:
自来水厂: 在原水水质波动大、杂质多的环境下,确保出厂水余氯数据的连续准确。
海水淡化系统: 面对高盐度、易结垢的海水环境,物理研磨技术能有效防止电极盐结晶堵塞。
泳池与景观水: 解决因藻类滋生导致的电极测量不准问题,降低泳池运营的维护频率。
在工业 4.0 和智慧水务的背景下,自动化监测设备的核心价值在于**“省心"与“可靠"**。
HORIBA HR-200 通过物理研磨清洗这一创新设计,成功打破了“余氯监测=高维护成本"的问题。它不仅是一款测量仪器,更是帮助水处理行业降低运维负担、提升水质安全保障的得力助手。
告别繁琐的人工清洗,让数据监测回归自动化本质,这正是 HR-200 为行业带来的最的大的价值。