光罩掩模版精密清洗方案｜1MHz 本多 W-357BM-1200 兆声波发生器解析

光罩（掩模版）作为光刻原版，石英基板上的铬图形、抗反射膜层结构极其精细、昂贵。光罩在光刻使用过程中，表面会附着亚微米颗粒、有机残胶与微量金属杂质，一旦污染物转移到晶圆，会直接造成光刻缺陷，影响芯片良率。

传统低频超声波依靠强空化冲击清洗，能量不可控，极易造成光罩铬层脱落、光刻图形破损，贵重光罩直接报废。1MHz 兆声波弱化剧烈空化效应，依靠稳定声流剪切力剥离污染物，在保障洁净度的前提下保护精细光刻图案，是光罩再生清洗的优选工艺。

本多電子 W-357BM-1200，1MHz 分离式兆声波发生器，额定输出功率 1200W，搭配兆声波换能器组成清洗模组，适配光罩槽式清洗、单片式精密清洗设备，满足各类光刻掩模版循环复用的纳米级洁净需求。

产品核心参数

• 型号：W-357BM-1200

• 品牌：本多電子 HONDA

• 工作频率：1MHz

• 额定输出功率：1200W

• 通讯接口：RS485，Modbus 协议

• 功率调节：1W 步进精细可调

• 结构形式：分离式，发生器主机与换能器分体布置

• 适配工艺：超纯水、光刻配套化学清洗药液

本多 W-357BM-1200 发生器核心特点

1. 1MHz 高频兆声波，适配光罩低损伤清洗

1MHz 兆声波频段，抑制强空化冲击，以温和稳定的声流效应带走的光罩表面亚微米颗粒。不会冲击破坏掩模版上精细铬图形、抗反射涂层，可降低掩膜图案剥落、膜层损伤风险，尤其适合高精度光刻光罩、EUV 掩模版这类高价值基板清洗。

2. 1200W 大功率输出，1W 步进精细控能，固化光罩清洗工艺

1200W 大功率，可驱动大面积兆声波换能器，适配大尺寸光罩批量清洗。功率支持 1W 微小步进调节，工艺工程师可以根据光罩尺寸、污染物类型、药液体系精准设定声能，快速调试、固化可重复的光罩清洗配方，保证每一片光罩清洗效果稳定一致。

3. RS485 Modbus 工业通讯，接入全自动光罩清洗设备

搭载 Modbus 通讯，通过 RS485 接口和设备 PLC、上位机双向数据交互。支持远程启停、功率参数读写、运行状态采集、故障代码回传，方便集成全自动光罩清洗机，实现掩模版无人化批量再生清洗，适配掩模车间自动化产线。

4. 多重安全保护机制，规避光罩报废损失

内置负载阻抗实时监测，集成过流、过热、换能器断线保护。当负载异常、线路故障时，发生器快速切断功率并触发报警，防止异常能量输出造成光罩不可逆损伤，降低贵重掩模版报废风险，支持 7×24 小时长时间连续生产。

5. 分离式结构，适配光罩湿法清洗的潮湿腐蚀环境

发生器电控主机和换能器分体安装。主机放置在干燥设备控制柜内，换能器安装在清洗槽药液腔体，隔离水汽与腐蚀性化学气体，延缓电路老化，提升整机运行稳定性，便于清洗设备结构布局与后期维护检修。

典型应用场景

• 光刻光罩、掩模版再生湿法清洗

• EUV 掩模版纳米颗粒去除工艺

• 铬掩模、石英光罩基板精密清洗

• 光罩槽式清洗设备、单片掩模清洗机配套

• 光刻掩膜版表面有机污染物、微颗粒剥离

总结

光罩清洗最大难点，就是平衡颗粒去除能力与光刻图形保护。本多電子 W-357BM-1200 兆声波发生器，依托 1MHz 高频特性、1200W 大功率、1W 步进精密功率控制与工业总线通讯能力，为光罩无损清洗提供稳定可靠的声能驱动方案。在掩模版多次循环复用过程中，高效清除微颗粒与有机杂质，规避膜层、图形损伤，是高的端的光罩清洗设备理想配套振荡源。

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