1MHz 兆声波 光罩掩模版无损清洗｜本多 W-357BM-1200 发生器特点

光掩模（光罩）作为光刻工艺中的原版载体，表面铬图案、抗反射层结构极其精细脆弱。生产与复用过程中附着的颗粒、有机污染物、微量金属杂质，会直接造成晶圆光刻缺陷，降低芯片良率。传统低频超声波清洗会产生强烈空化冲击，极易损伤掩模版铬层、造成图案剥落。1MHz 兆声波清洗依靠温和声流效应剥离污染物，在保证洁净度的同时最的大的程度保护掩膜图形，是光掩模再生清洗的主流工艺方案。

本多電子 W-357BM-1200 为 1MHz 兆声波发生器，专为光掩模湿法清洗设备开发，额定功率 1200W，可配套兆声波换能器组成清洗模组，广泛应用于掩模版槽式清洗、单片式精密清洗设备，满足掩模版重复使用的纳米级洁净要求。

产品核心参数

• 产品型号：W-357BM-1200

• 品牌：本多電子 HONDA

• 工作频率：1MHz

• 额定输出功率：1200W

• 通讯接口：RS485，Modbus 协议

• 功率调节：1W 步进精细可调

• 结构形式：分离式，电源主机与换能器分体布置

• 适配工艺：超纯水、光刻配套化学清洗药液

本多 W-357BM-1200 发生器核心特点

1. 1MHz 高频兆声波，实现光掩模低损伤清洗

1MHz 属于兆声波频段，大幅弱化剧烈空化现象，以稳定的声流剪切力带走掩模版表面亚微米颗粒，不会冲击破坏精细铬图形、抗反射涂层。针对高精度光罩、EUV 掩膜等贵重基板，可显著降低图案破损、膜层脱落风险，兼顾清洗能力与基板安全性。

2. 1200W 大功率 + 1W 精细功率调节，工艺可固化

1200W 大功率输出可驱动大面积换能器模组，适配大尺寸光掩模清洗。功率支持 1W 微小步进调节，工艺工程师可根据掩膜尺寸、污染物类型、药液体系微调声能输出，快速调试并固化稳定的清洗配方，保证每一批次掩模清洗效果一致性。

3. RS485 Modbus 工业通讯，对接全自动掩模清洗产线

内置 Modbus 通讯功能，通过 RS485 接口与设备 PLC、上位机通讯。支持远程启停、功率参数读写、运行状态监测、故障代码回传，便于集成全自动掩模版清洗设备，实现无人化自动清洗流程，适合掩模车间批量再生清洗场景。

4. 多重安全保护，防止贵重掩模报废

具备负载阻抗实时监测、过流、过热、换能器断线保护。一旦负载异常、线路故障，发生器可快速切断功率并报警，避免能量异常输出造成光掩模不可逆损坏，降低贵重掩模版报废损失，满足产线长时间连续运行需求。

5. 分离式结构，适配湿法腐蚀潮湿环境

电源主机与换能器分体安装，电控主机放置在干燥控制柜，换能器安装于清洗槽药液腔体内。隔离水汽与化学腐蚀性气体，减少电源电路老化，提升整机稳定性，方便设备结构布局与后期维护检修。

典型应用场景

• 光刻光掩模、光罩再生精密湿法清洗

• EUV 掩模版颗粒去除工艺

• 半导体晶圆掩膜版槽式、单片清洗设备配套

• 铬掩模、石英基板表面纳米污染物剥离

• 光学掩膜基板、精密石英元件清洗

总结

光掩模清洗的核心矛盾，是高效除颗粒和保护精细光刻图形之间的平衡。本多電子 W-357BM-1200 兆声波发生器凭借 1MHz 高频特性、1200W 大功率、1W 步进功率控制与工业总线通讯能力，为光掩模无损清洗提供稳定的声能驱动方案。在掩模版循环复用工艺中，有效去除微颗粒与有机杂质，同时规避膜层、图形损伤风险，是高的端的光罩清洗设备理想的配套振荡源。

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