微结构工件清洗如何兼顾洁净与防护？SONOSYS 浸没式兆声波系统

更新时间：2026-09-15

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在半导体、光学、微纳制造及医疗植入件生产中，精密清洗一直是工艺难点。传统清洗方式容易出现两个极的端的：清洗力不足，纳米颗粒残留影响产品良率；或是能量太强，直接损伤精细微结构，造成工件报废。如何在高效去除微小污染物的同时保护微结构，是很多湿法工艺工程师面临的难题，而 SONOSYS PVDF 浸没式超声 / 兆声波系统给出了解决方案。

这套系统采用全封装 PVDF 材质浸没式换能器，可直接安装在现有清洗槽的底部或侧壁，无需大规模改造产线槽体，支持 4 英寸基底标准配置，也可按需定制方案。设备搭载专的利的蝴蝶技术压电陶瓷，相比同类产品声压提升 40%，清洗效率的最的高提升 30%；能量传输均匀稳定，能够剥离纳米级颗粒，同时控制能量输出，避免冲击损坏精密微结构，实现洁净与防护两者兼顾。

核心应用场景

✅ 半导体与光伏：晶圆、掩膜版清洗，支撑半导体湿法化学生产工艺

✅ 光学行业：光学元件镀膜前精密清洗

✅ 微纳技术领域：微零件、微系统清洗，适配 LIGA 工艺研发

✅ 医疗行业：各类植入物精密清洗

设备核心参数亮点

模块化兆声波发生器，可选 400kHz~2MHz 多频段，输出功率可在 10%-100% 之间连续调节；主机为 19 英寸 3/4U 机架式，体积小巧，整机约 4.5kg，便于集成。工作环境适配 10~40℃，整机做防潮、防腐蚀蒸汽防护，适配洁净车间工况。

现有清洗槽想要升级兆声波清洗能力，无需更换整套槽体设备，加装 SONOSYS 浸没式换能器系统即可完成改造，降低产线升级成本，满足微结构工件的高标准精密清洗需求。

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