MEMS 与光学元件纳米颗粒清洗，SONOSYS 兆声波清洗解决方案

概述

在 MEMS 器件、光学元件制造工艺中，纳米级微小颗粒污染是影响良率、产品性能的关键痛点。传统清洗方式难以剥离几十纳米的微小污染物，容易造成元件表面划伤、结构损伤。德国 SONOSYS 作为欧洲兆声波清洗技术领的导的者的，凭借 500kHz~5MHz 高频兆声波清洗技术，可安全高效去除纳米颗粒，为 MEMS、光学工业提供低损伤的精密清洗整套方案，产品已在全球交付超 4500 套兆声波清洗设备。

核心产品

1. Slim Line 单双喷嘴兆声波发生器

Slim Line 系列为喷嘴式兆声波清洗单元，适配定点清洗工艺。

• 功率：MLM1 模块 35W，MLM2 模块 70W，输出功率可在 10%~100% 连续调节

• 可选频率：1MHz、2MHz、3MHz、4MHz、5MHz，更高频率可清洗更小颗粒

• 供电：110V/230V AC，50–60Hz；标准 19 英寸 3/4U 机架机箱，重量约 4.2kg

• 配套单喷嘴组件：采用特种 PZT 压电陶瓷换能元件，PTFE 屏蔽高频线缆；液体流量 1.01~1.6L/min，清洗距离可控制 5~20mm，适用于局部定点清洗，减少液体消耗。

2. PVDF 潜水式兆声波 / 超声波换能板

浸入式平板换能器，适合槽式批量湿法清洗场景，是 MEMS、光学基板批量清洗优选。

• 材质：PVDF 外壳，换能板带 PFA 涂层，耐腐蚀性强，适配各类清洗药液

• 换能阵列：特殊蝴蝶工艺 PZT 压电陶瓷，拥有连续完整有效振动区域，有效振动面积约 180×170mm

• 规格：标准尺寸 4/6/8 英寸，支持定制尺寸

• 温度：无冷却最高耐温 60℃，氮气冷却条件下最高可达 80℃；配套氮气保护接口，氮气最大压力 0.1bar

• 发生器可选频率：400kHz、600kHz、1MHz、2MHz，功率可选 1000W 或 2000W；机箱为 19 英寸 3/4U，整机约 7.0kg

功能优势

1. 高频低损伤：500kHz~5MHz 兆声波，空化效应温和，相比低频超声波，大幅降低精细 MEMS 微结构、光学镀膜层的破损风险，专门针对纳米颗粒剥离。

2. 两种工艺形态可选：喷嘴定点清洗 + 浸入平板式清洗，可兼容单片局部清洗与整槽批量清洗，适配不同产线工艺设计。

3. 耐化学腐蚀：PTFE、PVDF、PFA 材质组件，兼容半导体湿法各类酸碱清洗液，适配严苛的化学清洗环境。

4. 稳定可控：功率连续可调，流量、清洗距离、温度参数可控，工艺重复性高，便于集成到自动化产线。

5. 成熟工程经验：SONOSYS 自 1995 年专注超声 / 兆声波清洗，4500 + 套设备落地，大量 MEMS、光学、半导体行业现场应用案例。

应用场景

• MEMS 器件：MEMS 传感器、微流控芯片、微型结构件，去除光刻胶残渣、纳米粉尘、研磨颗粒

• 光学元件：光学镜片、镀膜基板、棱镜、镜头组件，清洗表面纳米尘埃、抛光残渣

• 拓展领域：半导体晶圆、太阳能电池、生化科研样品精密清洗

选型参考

• 单片定点清洗、小区域重点除颗粒：推荐 Slim Line 单双喷嘴兆声波发生器

• 基板批量槽式湿法清洗、大面积同步处理：推荐潜水式 PVDF 兆声波换能板

• 微小纳米颗粒优先选择 3MHz 及以上高频型号，降低对精密元件的冲击损伤

FAQ

1. 兆声波对比普通超声波有什么区别？普通超声波一般几十 kHz，空化强度大，容易损伤微细结构；兆声波 MHz 级别，空化更柔和，可剥离几十纳米微小颗粒，适合 MEMS、光学这类脆弱精密件。

2. 换能板可以在高温药液环境使用吗？PVDF 潜水式换能板，不加冷却最高 60℃；接入氮气冷却可最高至 80℃，需控制氮气流量≥4L/min。

3. 是否支持设备集成？SONOSYS 发生器与换能组件模块化设计，方便设备集成商嵌入清洗机台，欢迎集成商、科研用户咨询。

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