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SUN ENERGY SKB1101N 紫外清洗改质装置,半导体光学材料表面活化预处理设备

更新时间:2026-10-23      浏览次数:6

在半导体、光学元器件加工环节,基材表面微量有机污染物,会直接降低镀膜、粘接、涂覆的附着力。传统湿法清洗容易产生化学残留、损伤精密基材,废液处理成本高。SUN ENERGY SKB1101N 台式紫外清洗改质装置,采用干式 UV 臭氧工艺,为精密材料提供高效稳定的表面活化预处理方案。

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设备工作原理

设备搭载低压汞灯,释放短波长紫外光并激发产生臭氧。紫外光 + 臭氧协同作用:

  1. 分解剥离基板表面有机污染物,完成干式清洗;

  2. 对材料表面进行亲水化改性,提升基材表面活性,增强涂层、粘接剂附着性能。


核心产品优势

  • 小型台式机型,节约空间照射面积 100mm×100mm,批次式处理,适配实验室研发、样品测试、小批量试产,整机占地小,投入成本低。

  • 操作简单易上手工件放置样品台,一键完成点灯、照射计时、臭氧排气流程,无需复杂培训,即可快速开展实验。

  • 多重安全防护内置门联锁保护:设备工作时打开舱门,UV 灯管自动熄灭,避免紫外泄漏;标配臭氧排气风机与软管,臭氧可外排或触媒分解排放,防止气体泄漏。

  • 运维成本低,维护简便核心消耗件仅 UV 灯管,耗材数量少;仅需一把螺丝刀就能完成灯管更换,维护门槛低,长期使用更省钱。


适用行业与应用场景

适配半导体基板、光学镜片、精密塑胶件、电子元器件、医疗耗材等精密工件的前处理工序。干式清洗无需化学溶剂,无废液产生,绿色环保,是精密材料研发与小批量生产优选的表面活化预处理设备。








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