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产品分类技术文章/ article
1引言工业生产中，压缩空气、氮气、氩气、氢气及各类工艺可燃气体的水分超标，会引发管路腐蚀、焊接缺陷、晶圆污染、催化剂失效等一系列问题。相较于相对湿度，露点温度不...
在化妆品、医药及食品的配方研发过程中，实验室常常面临一个棘手的问题：小批量（300mL-1L）的粘稠膏霜、软膏或凝胶，怎样才能实现高效、均匀的真空乳化分散？手工搅拌费时费力且容易产生气泡，而大型生产设备又无法用于微量配方的初筛。面对这些研发...
在化妆品和制药行业的研发实验室中，配方的成功往往取决于小试阶段的精准度。一款高性能的台式乳化设备，不仅能缩短研发周期，更能确保从实验室到大规模生产的顺利放大。AGI-HOMOMIXER2M系列（型号2M-03/05/1）正是为此而生的紧凑型...
在半导体制造与精密加工领域，设备的精度直接决定了产品的良率与性能。然而，许多工程师在实际生产环境中常常面临一个隐蔽却致命的挑战：地面微振动。即便厂房采用了高标准的防振地基，周围交通、空调系统或厂内其他重型设备的运行，依然会产生低频微振动。这...
在传感器、光学器件、相机模组等精密电子产品的生产与质检环节，振动测试是验证产品可靠性的重要手段。无论是车载摄像头的路感模拟，还是工业传感器的环境适应性评估，都需要一台能够提供稳定、精准正弦波振动的测试设备。那么，传感器的振动测试到底需要多宽...
光罩（掩模版）作为光刻原版，石英基板上的铬图形、抗反射膜层结构极其精细、昂贵。光罩在光刻使用过程中，表面会附着亚微米颗粒、有机残胶与微量金属杂质，一旦污染物转移到晶圆，会直接造成光刻缺陷，影响芯片良率。传统低频超声波依靠强空化冲击清洗，能量...
光掩模（光罩）作为光刻工艺中的原版载体，表面铬图案、抗反射层结构极其精细脆弱。生产与复用过程中附着的颗粒、有机污染物、微量金属杂质，会直接造成晶圆光刻缺陷，降低芯片良率。传统低频超声波清洗会产生强烈空化冲击，极易损伤掩模版铬层、造成图案剥落...
半导体湿法清洗是芯片制造工艺流程中的核心环节，晶圆表面微颗粒、有机污染物、金属杂质的去除效果，直接决定芯片良率。传统低频超声清洗容易产生剧烈空化效应，造成晶圆表面损伤、图案崩塌，无法满足先进制程精密清洗需求。兆声波清洗依托高频声流效应实现温...
半导体制造、精密光学与MEMS器件生产过程中，微颗粒污染物去除是影响良率的关键工序。传统低频超声波清洗容易造成器件表面空化损伤，无法满足纳米级精密工件清洗要求。兆声波清洗依靠高频声波在清洗液中形成稳定流体微射流，在低损伤前提下剥离微米/亚微...
本多電子株式会社（HondaElectronicsCo.,Ltd.）一、产品概述HA-60A是一款利用超声波技术实现非破坏性检测的工业用产品。它通过超声波探测材料内部的缺陷（如裂纹、空洞、剥离等），无需对样品造成任何损伤即可完成检测，是半导...
在半导体制造、精密光学加工以及高的端的医疗器械等前沿领域，气动控制系统的精度往往决定了最终产品的良率与性能。传统的比例阀或普通步进电机调压阀在面对极的高的精度需求时，常常受限于分辨率不足或迟滞效应，难以实现完的美的闭环控制。如何在复杂的工况...
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